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品質創(chuàng)造價值 矽萬半導體驚艷亮相納博會
2024年10月29日 10:21:33 來源:化工儀器網 作者:楊 點擊量:8816

在本次CHInano博覽會上,矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術和產品,包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。

  【化工儀器網 廠商報道】2024年10月23日,第十四屆中國國際納米技術產業(yè)博覽會(CHInano)在蘇州國際博覽中心盛大開幕。本次博覽會為期三天,聚焦微納制造、第三代半導體、納米應用等多個前沿科技領域,吸引了超過2400家相關企業(yè)參展參會。矽萬(上海)半導體科技有限公司作為半導體行業(yè)的技術型企業(yè),也應邀參加了此次盛會。
 
  矽萬(上海)半導體科技有限公司(以下簡稱:矽萬半導體)是一家致力于設計、研發(fā)、生產、銷售和服務高精密半導體設備的高新技術中外合資企業(yè)。公司以“品質創(chuàng)造價值,服務實現(xiàn)共贏”為經營理念,專注于為客戶提供PicoMaster無掩模激光直寫光刻機,包括設備的安裝調試、工藝改進、軟件開發(fā)、以及可選配的涂膠顯影清洗設備等。
 
矽萬半導體展臺現(xiàn)場
 
  在本次CHInano博覽會上,矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術和產品,包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。作為一家專注于半導體技術研發(fā)與生產的公司,矽萬在半導體制造領域積累了豐富的經驗和技術實力。此次參展,不僅展示了公司的最新成果,也為業(yè)界提供了一個深入了解矽萬半導體技術和產品的平臺。
 
  高精度/高灰度光刻解決方案
 
  產品名稱:PicoMaster ATE-200 
  技術規(guī)格: 
  分辨率300nm 
  灰度光刻4096階
  Energy Compensation Method(ECM)
 
高精度/高灰度光刻解決方案
 
應用效果圖
 
  超大幅面高精度光刻解決方案
 
  產品名稱:PICOMASTETR XF ATE-1000 
  技術規(guī)格: 
  400nm最小分辨率 
  400nm, 600nm, 1.5um和2.5um四種分辨率自動切換 
  最大直寫速度5000m㎡/minute 
  光源波長355nm 
  256階灰度光刻 
  幅面200,500,800,1000和1400
 
超大幅面高精度光刻解決方案
 
應用效果圖
 
  在博覽會期間,矽萬半導體與來自全球的同行進行了深入的交流與合作探討,共同探討了半導體技術的發(fā)展趨勢和未來方向。通過此次參展,矽萬半導體不僅擴大了自身的品牌影響力,也進一步了解了市場需求和行業(yè)發(fā)展趨勢,為未來的技術研發(fā)和市場拓展提供了寶貴的經驗和信息。相信未來,矽萬半導體將繼續(xù)秉承創(chuàng)新、務實、高效的企業(yè)精神,不斷加強技術研發(fā)和市場拓展,為全球半導體產業(yè)的發(fā)展做出更大的貢獻。
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