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FPIXRF-micro-XRF-微型X射線(xiàn)熒光光譜儀

2025-01-16

產(chǎn)      地:
www.f-lab.cn/edxrf.html
所在地區(qū):
上海上海市
有效期還剩 73舉報(bào)該信息

微型X射線(xiàn)熒光光譜儀是美國(guó)進(jìn)口的臺(tái)式多功能X射線(xiàn)熒光光譜儀,適合固體,液體,顆粒,粉末; 小而大,以及粗糙或拋光,幾乎任何樣品都可以測(cè)量。
微型X射線(xiàn)熒光光譜儀硬件
X射線(xiàn)源
•光斑尺寸≤10μ+,帶有多毛細(xì)管光學(xué)元件
•50kV / 50W / 1mA Rh靶(其他可用)x射線(xiàn)管
•濾光輪與多達(dá)8個(gè)過(guò)濾器定位在聚焦光學(xué)元件之前
•可選擇使用兩個(gè)X射線(xiàn)管用于不同的元件范圍,目標(biāo)和光斑尺寸
X射線(xiàn)探測(cè)器
•30mm2至150mm2,可提高速度,縮短采集時(shí)間
•≤130-145eV分辨率
X射線(xiàn)熒光光譜儀位移臺(tái)
電動(dòng)XYZ
•速度可達(dá)300mm / s(地圖采集≤1ms /像素)
•精度低至≤1μ
•10kg +負(fù)載能力
適合樣品和檢測(cè)條件
•空氣,真空和氦氣
•在一分鐘內(nèi)準(zhǔn)備好真空
•固體,液體,粉末和顆粒
微型X射線(xiàn)熒光光譜儀
抽真空條件
樣品室尺寸
•樣品室尺寸為508x457x254mm
•行程高達(dá)250x200mm(總行程可達(dá)320x320x120mm)
•從管到樣品的從上到下的垂直幾何
光譜收集與分析
•一鍵式采集和自動(dòng)峰值識(shí)別
•可定制的識(shí)別,標(biāo)簽,處理和量化
•滾動(dòng)周期圖
•拖放疊加層
•自動(dòng)重疊校正,求和/退出峰去除,背景校正和線(xiàn)性/非線(xiàn)性去卷積
•基本參數(shù)(FP)和定量匹配
•材料分類(lèi)數(shù)據(jù)庫(kù)
成像
•直接從圖像中進(jìn)行多點(diǎn)自動(dòng)分析
•快速特征尺寸測(cè)量的形態(tài)處理
•圖像拼接和蒙太奇
•分割和特征分離
•顆粒分析包,包括邊界移除,排序,排除和組成分類(lèi)
微型X射線(xiàn)熒光光譜儀應(yīng)用
考古/博物館
•無(wú)損檢測(cè) - 博物館文物和貨幣
•金屬和合金
•寶石夾雜物
•繪畫(huà)真實(shí)性/約會(huì)
•油漆,油墨,顏料
•腐蝕產(chǎn)品
涂料分析
•涂料在許多不同的基材上,厚度和組成多層
•微電子封裝和互連
•粘接墊
•油漆
•生物醫(yī)學(xué)設(shè)備/植入物
• 太陽(yáng)能電池
•濾光片
•光伏
•防腐涂料
• 耐磨性
•RoHS應(yīng)用
•半導(dǎo)體
污染
•微觀(guān)污染物顆粒的非破壞性鑒定
•異物在樣品表面以下的位置
•大型現(xiàn)實(shí)生活樣本分析:
• 電子產(chǎn)品
•發(fā)動(dòng)機(jī)磨損碎片
• 食品與飲料
•制造
•病理學(xué)
•制藥
•半導(dǎo)體
電子元器件
•缺陷分析
•污染物識(shí)別
•符合RoHS,WEEE和ELV標(biāo)準(zhǔn)
•焊接空隙
•PCB的X射線(xiàn)成像
•離子遷移
環(huán)境分析
•消費(fèi)品中的鉛污染(即玩具,珠寶等)
• 打包
•土壤污染
•回收材料表征
•海洋/海洋沉積物
•空氣中的顆粒/空氣過(guò)濾器
•泥漿
法醫(yī)科學(xué)
•玻璃片
•繪制橫截面
•金屬/合金
•油墨/顏料
•土壤/石頭
•槍射殘?jiān)?br/>•材料鑒定
地質(zhì)學(xué)
•隕石
•相邊界
•礦物鑒定
•采礦測(cè)試核心
•海洋/湖泊沉積物核心
•巖石結(jié)構(gòu)
•個(gè)別顆粒
•采礦勘探
材料
•金屬和合金
• 電子產(chǎn)品
•眼鏡
•建筑材料(混凝土,水泥)
• 打包
•礦物
•內(nèi)部結(jié)構(gòu)和空隙
•多層厚度分析
•塑料添加劑
•無(wú)機(jī)物
•半導(dǎo)體
醫(yī)學(xué)/生物學(xué)
•骨骼/組織
•葉/植物
•藥品
•植入物
•醫(yī)療磨損碎片
•礦物沉積物/石頭
粒子分析
•磨損碎片,醫(yī)療,發(fā)動(dòng)機(jī),制動(dòng)器
•夾雜物,金屬,塑料制藥
•平板成像(API分布,混合均勻性)
•污染物識(shí)別
•原料成分
•QC / QA
•微粒分析
• 故障排除
磨損和失效分析
•定量組成分析
•自動(dòng)多粒子分析      •成像顆粒形狀
•金屬/合金鑒定        •腐蝕分析
微型X射線(xiàn)熒光光譜儀規(guī)格參數(shù)

技術(shù)規(guī)格
樣品類(lèi)型固體,液體,顆粒,粉末
樣品室尺寸20x18x10in。 (508x457x254mm)
測(cè)量媒體空氣,真空,氦氣
勵(lì)磁源12-50W,0-60kV,200μA-1mA
勵(lì)磁參數(shù)
目標(biāo)材料

現(xiàn)貨尺寸
過(guò)濾器
孔徑或多毛細(xì)管準(zhǔn)直
Rh(其他可用)
50kV,50W,1mA(可選第二管)
≤10-1000μ
多8個(gè)
幾何自上而下的梁(垂直)
探測(cè)器
解析度
活動(dòng)區(qū)域
SDD(根據(jù)要求提供Si-Pin)
130-145eV
30-150mm2
階段電動(dòng)X,Y,Z(可用)
25x25mm高達(dá)320x320mm的范圍
10kg +負(fù)載能力
樣本旅行      總計(jì)映射
地圖掃描速度
采樣速度
320x320x120mm
250x200mm
1-3ms /像素
高達(dá)300mm /秒
樣品查看三個(gè)樣品定位和分析相機(jī)
儀器控制電腦 Windows 7/8
*控制參數(shù),過(guò)濾器,
相機(jī),光學(xué)顯微鏡,樣品
照明和定位,以及
測(cè)量介質(zhì)
功率100-240 V,50/60 Hz
認(rèn)證CE,RoHS,輻射
元素范圍Na-U
尺寸35x22x22in(890x560x560mm)
質(zhì)量和安全CE認(rèn)證RoHS,輻射<1μSv/ h            




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