Nicolet Almega XR 顯微和宏拉曼分析系統(tǒng)
- 公司名稱 上海誠(chéng)銘科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Nicolet Almega XR
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2016/7/1 3:41:39
- 訪問次數(shù) 667
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瑞士METTLER-TOLEDO產(chǎn)品,METTLER實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品,英國(guó)ELGA純水器,德國(guó)IKA 產(chǎn)品,德國(guó)KNF隔膜泵,德國(guó)HETTICH離心機(jī),Thermo賽默飛光譜,RAININ移液器/耗材
詳細(xì)說明:
Thermo Scientific Nicolet Almega XR提供率和多功能性--尤其適用于樣品可能是任何物質(zhì)而分析速度是至關(guān)重要時(shí)。
Nicolet Almega XR拉曼分析系統(tǒng)提供zui高的采樣多功能性和效能。 該儀器專為致力于解決價(jià)值問題的實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì),它可快速生成結(jié)果及迅速重新配置以適用于各種樣品類型。 Nicolet Almega XR支持微量和宏量采樣、多次激發(fā)激光以及各種自動(dòng)化采樣模式。 幾乎所有的系統(tǒng)重新配置都通過軟件完成,操作人員能夠快速地在采樣模式之間切換, 多次激發(fā)激光優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。 大部分情形下,它可以在15秒內(nèi)更改配置并在屏幕上展示測(cè)量預(yù)覽結(jié)果。
- 鑒定和識(shí)別小顆粒--小至0.5微米。 顆粒污染鑒定
- 高分辨率深度剖析和表層下分析透明和半透明樣品。 用于特征化涂層、多層薄板、薄膜、夾雜物和次表面缺陷
- 有機(jī)和無機(jī)樣品。 光譜范圍提供低至100cm-1的測(cè)量,特別適用于無機(jī)物,因其通常具有低頻率帶
- 分子形態(tài)特性分析。 良好的碳分子和硅分子骨架可以較好的區(qū)分多晶型藥物以及無定形晶體硅和許多其他材料
- 自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集和用于制藥行業(yè)多晶體再結(jié)晶研究的分析套件
- 表面積和表層下的表征受益于x-y區(qū)域圖和x-z圖
- 通過玻璃和塑料包裝測(cè)量。 允許直接通過證物袋、安瓿注射劑和防護(hù)涂層測(cè)量
- 備有支持孔板、片劑陣列、試管和樣品瓶自動(dòng)測(cè)量的樣品附件
- 使用可選的光纖探針對(duì)過大而無法放在顯微鏡下的樣品進(jìn)行遠(yuǎn)程取樣
High-Performance
- 快速配置切換允許重新配置和在數(shù)秒內(nèi)優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。
- 激光器、濾光片、光柵和孔徑的選擇*由軟件控制。
- 用于快速測(cè)量的高靈敏度
- 的空間分辨率--證明顯示與在適用樣品上的540nm分辨率*
- 的共聚焦深度剖析--證明顯示與適用樣品上的1.7um*
- 所有激光器都具有自動(dòng)熒光校正功能
- 集成的Olympus BX-51研究顯微鏡
- 白光校正生成的光譜可與儀器和不同的激發(fā)激光之間的光譜相媲美
- 多維波長(zhǎng)校準(zhǔn)提供在整個(gè)范圍內(nèi)的準(zhǔn)確波長(zhǎng)校準(zhǔn); 校準(zhǔn)過程為*自動(dòng)化,可使用軟件計(jì)劃在工作時(shí)間外(即儀器不在使用時(shí))執(zhí)行校準(zhǔn)
- 在共聚焦和高性能收集模式之間的軟件控制切換開關(guān)
- 的自動(dòng)化宇宙射線抑制算法和高質(zhì)量激光波長(zhǎng)濾光片確保獲得*的光譜
- 激光器功率可調(diào)節(jié)低至0.1%
- 優(yōu)化各個(gè)激光器的光柵,避免分享用于多個(gè)激光器的光柵的系統(tǒng)犧牲其效能
- 每個(gè)激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)結(jié)合,提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--均*由軟件控制。
- 的自動(dòng)準(zhǔn)直確保系統(tǒng)保持在如新的狀態(tài)中
- 的智能化背景自動(dòng)移除CCD暗場(chǎng)功率配置
- 在顯微鏡和宏量采樣儲(chǔ)存室之間的切換*由軟件控制
Versatility
- 顯微鏡測(cè)量、的宏量采樣使用自動(dòng)取樣器功能和遠(yuǎn)程光纖采樣功能完成--均在一個(gè)儀器內(nèi)
- 每個(gè)激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)結(jié)合,提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--這一切均*由軟件控制。
- 可選的抗斯托克斯測(cè)量功能
- 可選的極化拉曼測(cè)量
- 用于顯微鏡的加熱/冷卻階段選項(xiàng)
- 備有可用于宏量采樣的加熱/冷卻樣品室、濕度樣品室和電化學(xué)樣品室
- 光致發(fā)光測(cè)量模式
- 備有廣泛的光譜庫(kù)收集(>16,000個(gè)化合物)
- 數(shù)據(jù)庫(kù)搜索算法優(yōu)化用于拉曼數(shù)據(jù)
- 功能強(qiáng)大的光譜搜索軟件提供在單一操作時(shí)識(shí)別材料的多組分
- Omnic Atlus精密的成像和圖像分析軟件可快速定制化學(xué)圖像顯示
- 功能強(qiáng)大的宏制作工具可利用單一按鈕快速獲取重復(fù)性操作
- Omnic陣列提供自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集和基于樣品格式(例如孔板)的陣列分析--zui適用于多晶體再結(jié)晶實(shí)驗(yàn)
- 連接到光譜的審查跟蹤功能會(huì)自動(dòng)跟蹤所有采集參數(shù)和處理操作
Ease of Use
- 待決的Autoexposure簡(jiǎn)化了優(yōu)化曝光時(shí)間和曝光次數(shù)的程序
- 只需單擊軟件即可更改激光器、濾光片和光柵以及優(yōu)化新組件的準(zhǔn)直
- 準(zhǔn)直程序在軟件中為全自動(dòng)化。 用戶只需將準(zhǔn)直工具放在顯微鏡下,軟件即會(huì)執(zhí)行其他步驟。 用戶不需要作出任何決策來指引程序
- 校準(zhǔn)為*自動(dòng),可使用軟件計(jì)劃在工作時(shí)間外執(zhí)行校準(zhǔn)
Benefit of a Fully Integrated System規(guī)格為主要系統(tǒng)規(guī)格而非組件規(guī)格。 這樣,可以隨時(shí)提供規(guī)格供終端用戶驗(yàn)證,消除了通過結(jié)合組件規(guī)格計(jì)算系統(tǒng)效能的需要。
Reliability and Maintenance
- 系統(tǒng)只要求*由系統(tǒng)控制的常規(guī)自動(dòng)準(zhǔn)直。
- 校準(zhǔn)過程為*自動(dòng),用戶無需對(duì)數(shù)據(jù)質(zhì)量作出任何判斷來指引程序。
- 激光器可在不使用時(shí)自動(dòng)關(guān)閉以確保其使用壽命
Laser Safety
- 顯微鏡個(gè)別具有一級(jí)激光安全認(rèn)證。 (注意: 可選的光纖附件和一些其他可選的附件為class IIIb級(jí)激光裝置,要求激光防范措施和激光安全護(hù)目鏡。
- 激光通過物理方法阻擋視覺查看路徑以防止查看時(shí)暴露于眼睛。
Validation
- 備有可用的DQ/IQ/OQ/PQ驗(yàn)證的完整套件,包括廣泛的文檔和自動(dòng)化軟件協(xié)議
- Omnic D/S軟件符合CFR 21第11部分規(guī)范
- 法醫(yī)--痕跡證據(jù)和違禁藥物鑒定
- 制藥行業(yè)--多晶體、顆粒污染和擴(kuò)散研究
- 藝術(shù)品修復(fù)/保存--識(shí)別和特性分析色素、樹脂、釉彩以及顏料
- 考古學(xué)--特性分析角質(zhì)物、貝殼、骨頭和陶瓷仿制品
- 太陽(yáng)能--硅晶體; 光電材料特性分析
- 聚合物--夾雜物和凝膠缺陷、風(fēng)化效應(yīng)、薄板帶層以及晶體
- 缺陷分析--特性分析顆粒和表面上的小點(diǎn)
- 寶石學(xué)--彩色寶石的快速鑒定,區(qū)分天然和合成鉆石、特性分析夾雜物和摻雜物
- 納米技術(shù)--特性分析graphene、CNT、DLC涂層和其他納米結(jié)構(gòu)
- 學(xué)術(shù)研究--在材料科學(xué)、生物學(xué)研究和許多應(yīng)用的研究領(lǐng)域特別有用
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