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太陽能*產(chǎn)品——太陽能電池材料堿性蝕刻液:SUN-X系列
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海寶英實(shí)業(yè)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2017/7/9 4:14:09
- 訪問次數(shù) 826
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上海寶英實(shí)業(yè)有限公司是一家*的生物化學(xué)*服務(wù)企業(yè)，提供專業(yè)的一站式顧問服務(wù)及產(chǎn)品銷售，
產(chǎn)品范圍包括實(shí)驗室用測試劑、生命科學(xué)研究產(chǎn)品、特種化學(xué)品、各種實(shí)驗室用耗材及生化檢測儀器；客戶群廣泛分布于化學(xué)生物技術(shù)公司、大學(xué)、醫(yī)院、研究所、工廠等。目前代理銷售品牌有WAKO、Alexis、Enzo、Biomol、PBL、Boston、Accustandard、LKT、Bender、Sigma、MBI、Sanplatec等。
公司秉承“專注品質(zhì)、信守承諾、積極溝通、創(chuàng)新服務(wù)”的企業(yè)文化積極參與生物化學(xué)領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新和技術(shù)服務(wù)，幫助我們的客戶取得更大的成功。
WAKO、Alexis、Enzo、Biomol、PBL、Boston、Accustandard、LKT、Bender、Sigma、MBI、Sanplatec
太陽能產(chǎn)品——太陽能電池材料堿性蝕刻液:SUN-X系列
硅蝕刻液可令硅結(jié)晶型太陽能電池表面形成金字塔狀細(xì)微紋理結(jié)構(gòu)，用于降低反射率。一般作為蝕刻液的是IPA-堿混合液。不過，本公司此次開發(fā)了作為不含IPA 的太陽能電池硅片蝕刻液的「SUN-X 系列」。下面請由我為各位做「SUN-X 系列」的簡單介紹。
☆ SUN-X系列基本原理
1） 與環(huán)境保護(hù)相對應(yīng)
不使用IPA
SUN-X 成分僅含低揮發(fā)性化合物與水
不使用IPA
SUN-X 成分僅含低揮發(fā)性化合物與水
＜沸點(diǎn)＞
| SUN-X添加物 | 200℃以上 |
| IPA | 82.4℃ |
→減少大氣污染
2） 高產(chǎn)量
比較使用SUN-X和堿/IPA做硅片蝕刻時的代表性條件。
＜蝕刻液的使用條件＞
比較使用SUN-X和堿/IPA做硅片蝕刻時的代表性條件。
＜蝕刻液的使用條件＞
| 蝕刻液 | SUN-Xs | 堿性/IPA |
| 使用時溶液的配制方法 | 3倍稀釋 | 按設(shè)定量混合 |
| 蝕刻方法 | 浸泡 | 浸泡 |
| 溫度（℃） | 80 | 55~80 |
| 時間（分鐘/） | 20~30 | 45~60 |
| 組成的穩(wěn)定性 | 穩(wěn)定 | 不穩(wěn)定 |
● 使用IPA時，會發(fā)生揮發(fā)，需要時時添加，無法保持一定的濃度。
● SUN-X 系列僅可用水稀釋3倍。
● 與之前方法相比，蝕刻的處理時間有望是之前的一半以下。
● SUN-X 系列僅可用水稀釋3倍。
● 與之前方法相比，蝕刻的處理時間有望是之前的一半以下。
3）容易控制紋理形狀、大小
● 一般而言，受光影響，硅片表面會吸收75%能量，反射25%能量。
被反射的光再被旁邊的紋理表面吸收。
● 高低紋理相連接，反射的光就不能被吸收而會損失。
● 雖然紋路小的紋理可以很好地吸收光，但俯視圖可看到還是有一部分光損失于紋理中。
● 因此，紋理的形狀和大小對吸收效果的好壞（提高低反射率）有很大的影響。使用SUN-X，可形成均勻的紋理。
● 分開使用藥液，可調(diào)整紋理大小。
● 使用SUN-X 600 得到的紋理尺寸約為6～8μm、使用SUN-X 1200得到的紋理尺寸約為12μm。
被反射的光再被旁邊的紋理表面吸收。
● 高低紋理相連接，反射的光就不能被吸收而會損失。
● 雖然紋路小的紋理可以很好地吸收光，但俯視圖可看到還是有一部分光損失于紋理中。
● 因此，紋理的形狀和大小對吸收效果的好壞（提高低反射率）有很大的影響。使用SUN-X，可形成均勻的紋理。
● 分開使用藥液，可調(diào)整紋理大小。
● 使用SUN-X 600 得到的紋理尺寸約為6～8μm、使用SUN-X 1200得到的紋理尺寸約為12μm。
蝕刻液與能量轉(zhuǎn)換效率
| 蝕刻液 | FF | Jsc | Voc | η |
| SUN-X 600 | 0.768 | 35.97 | 0.640 | 17.68 |
| SUN-X 1200 | 0.770 | 35.61 | 0.636 | 17.43 |
| Alkali / IPA | 0.762 | 34.79 | 0.630 | 16.70 |
● 與之前使用IPA / 堿性時相比，可得到具有低反射率、高轉(zhuǎn)換率的晶片。
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