光化學高壓反應釜
HTPPRS高溫高壓光反應釜系統由光化學反應釜、加熱保溫部分、氣液取樣及控制等部分組成;該光化學反應釜采用頂照式,具有雙層腔式的高溫耐壓防霧光窗結構,可防止高溫氣體在視鏡上的冷凝結霧現象,較好的維持了光能的穩(wěn)定輸入;加熱系統采用便攜、穩(wěn)定可靠PID 溫控儀、加熱套、納米隔熱套等,通過對反應釜內溫度的直接監(jiān)測來反饋控制,有利于提高試驗可靠性及重復性;氣液取樣,通過高壓介質梯級泄壓的方式,可直接從外端口手動取樣,操作簡便且有效;在控制部分,除溫度控制外,還接有壓力監(jiān)測、安全閥、泄壓端口及進氣端口,使系統能夠安全可靠運行。該反應釜用于高溫高壓下的光化學反應測試,能夠對反應溫度進行控制,對反應壓力進行調節(jié),可手動取出光化學反應的氣液樣品,便于及時測試分析,具體應用范圍較廣,特別適用于高校、科研院所的少量光化學反應的寬參數范圍的測試分析。
高溫高壓光催化反應測試系統
系統配置及參數
●設計容積(有效):50ml,100ml,200ml,訂制。
●設計工作溫度:200°C
●設計工作壓力:2.5MPa
●釜體材料:SU304不銹鋼
●閥門及連接材料:SU316L不銹鋼
●反應器容器:聚四氟乙烯
●光窗口材料:拋光JGS2紫外石英(耐壓窗口)或合成石英
●光窗口直徑:25.4mm
●帶有溫控加熱裝置及均勻傳熱設計。
●帶有多路氣體通入功能;
●帶有液樣催化劑濾除裝置;
●帶有工作溫度、壓力傳感器及顯示;
●帶有磁力攪拌功能;
●帶有自動泄壓保護;
●可選配外保護箱體;
●可進行氣相、液相樣品檢測
可選配光照單元:
配合PLS-SXE300C/300CUV,或XPS300或XPS300UV(具有TSCS功能,可長時間保證光輸出穩(wěn)定性)使用。
可選配附件:紫外光直接輸出單元
光纖輸出單元
外置透鏡匯聚單元
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