ICP RIE 德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)---上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京

 德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)-----上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟(jì)南/廣州

     SENTECH儀器（德國）有限公司研發(fā)、制造和銷售*的薄膜測量儀器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測量儀器（在線和離線測量工具）和等離子工藝設(shè)備（等離子刻蝕機(jī)、等離子沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)、用戶定制多腔系統(tǒng)）。

    儀器廣泛應(yīng)用于微電子、光電、納米技術(shù)、LED、平板顯示、材料、有機(jī)電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學(xué)、生命科學(xué)、等研發(fā)領(lǐng)域。

    NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”，即諾威特測控科技有限公司，在德國、日本設(shè)有代表處，多年來致力于將世界的高科技產(chǎn)品帶給中國及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供完善的售后服務(wù)，協(xié)助他們提高生產(chǎn)技術(shù)水平、競爭力及增加盈利，專業(yè)從事工業(yè)測量與測試產(chǎn)品的銷售與研發(fā)，擁有產(chǎn)品研發(fā)中心、研究院和生產(chǎn)工廠，技術(shù)力量雄厚。

  產(chǎn)品簡介

    SI 500為研發(fā)和小批量生產(chǎn)應(yīng)用提供*的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設(shè)計(jì)特點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質(zhì)、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

    SI 500C低溫ICP刻蝕機(jī)，可在-100℃左右的低溫下實(shí)現(xiàn)深硅刻蝕。優(yōu)點(diǎn)是刻蝕后形成非常光滑的側(cè)壁，尤其在光學(xué)應(yīng)用上非常重要。同時(shí)低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實(shí)現(xiàn)刻穿樣片。

    SI 591 采用模塊化設(shè)計(jì)、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應(yīng)腔系統(tǒng)、或帶預(yù)真空室或片盒站的多腔系統(tǒng)。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。

型號

具體型號及技術(shù)要求咨詢。

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：夏雨 

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