布魯克Inspire紅外原子力顯微鏡

zui高分辨率的納米級化學(xué)和性質(zhì)成像
Bruker’s Inspire系統(tǒng)在常規(guī)AFM成像速度下可獲得納米級的紅外吸收和反射圖像，不受間接手工操作的逼近的限制，或為用戶增加使用的繁瑣。該系統(tǒng)實時地將原子級的納米力學(xué)成像與分辨率達(dá)10納米的紅外sSNOM 時空光譜成像以及*的納米電學(xué)測量相關(guān)聯(lián)。

簡而言之，Inspire重新定義了原子力顯微鏡的應(yīng)用。

Inspire 的出現(xiàn)，*次將zui高分辨率納米尺度下的化學(xué)和性質(zhì)成像與*的AFM技術(shù)和的AFM性能結(jié)合:

• 采用直接光學(xué)逼近方法獲得zui高分辨率的納米化學(xué)性質(zhì)表征和等離子基元效應(yīng)

• 布魯克公司*的PeakForce Tapping技術(shù)可提供zui為精準(zhǔn)的定量納米機(jī)械性質(zhì)的成像

• 全新的PeakForce IR技術(shù)可以實現(xiàn)以往技術(shù)難以實現(xiàn)的納米化學(xué)性質(zhì)的成像

• 利用ScanAsyst自動優(yōu)化圖像和集成的sSNOM光學(xué)系統(tǒng)可快速的獲得數(shù)據(jù)

的成像技術(shù)——操作簡單
Inspire 使用sSNOM直接光學(xué)的反射和吸收成像以獲得zui高的空間分辨率和靈敏度的納米化學(xué)信息。以往需多年的專業(yè)技術(shù)和數(shù)周的搭建時間獲得的實驗數(shù)據(jù)，Inspire的集成光學(xué)系統(tǒng)可以更快更簡單的實現(xiàn)。PeakForce Tapping（峰值力輕敲）技術(shù)及智能成像模式保證了即使是初學(xué)者也可以在幾分鐘之內(nèi)獲得專家級的AFM成像質(zhì)量。
PeakForce Tapping技術(shù)的強(qiáng)力支撐
布魯克公司*的PeakForce Tapping技術(shù)采用精確地控制每個像素下的力曲線，能夠降低成像時的作用力，這樣可以保護(hù)探針，同時zui高分辨率的形貌圖和納米尺度性質(zhì)的AFM圖像。Inspire利用了布魯克*的PeakForce Tapping技術(shù)為紅外散射近場光學(xué)顯微鏡（sSNOM），提供了全新的方法，擴(kuò)展了它在大量樣品的納米尺度的化學(xué)成像。PeakForce IR技術(shù)是一種通過交錯sSNOM信號采集和PeakForce Tapping的反饋，在同一
時間獲得全部的組合信息的全新技術(shù)。
新材料的化學(xué)成像
PeakForce IR技術(shù)超越了傳統(tǒng)的AFM，sSONM，或光熱方法下實現(xiàn)的納米級成像的范圍。Inspire 還可以鑒定材料類型，以及檢測靈敏度達(dá)單分子層級的膜厚變化。
紅外納米表征技術(shù)可以擴(kuò)展至：

• 粉末和高分子刷等接觸模式和輕敲模式都很難成功測量的樣品

• 橡膠體的成分，金屬材料，半導(dǎo)體材料，陶瓷和其他在光熱方法下不能測量的材料

• 石墨烯等離子體，電子結(jié)構(gòu)和化學(xué)修飾的樣品

為新的發(fā)現(xiàn)直接提供相關(guān)聯(lián)的信息
擁有PeakForce IR技術(shù)的Inspire通過具有所有優(yōu)勢的散射sSNOM技術(shù)提供的掃描探針的紅外反射和吸收成像，使獲得化學(xué)、材料和等離子基元的zui高空間分辨率的成像成為可能。該技術(shù)還可以與PeakForce QNM聯(lián)用實時的進(jìn)行定量納米機(jī)械模量和粘附力的成像。與PeakForce IR的聯(lián)用，PeakForce KPFM 實現(xiàn)了在10nm分辨率水平下的毫伏級的定量的功函數(shù)成像，PeakForce TUNA實現(xiàn)了即使在柔軟和易碎樣品上無法在接觸模式下獲得的導(dǎo)電圖像。
生產(chǎn)力的新標(biāo)準(zhǔn)
PeakForce IR利用布魯克*的智能成像模式技術(shù)，通過自動成像優(yōu)化，能夠更簡單、更快速獲得*的AFM圖像。結(jié)合帶有由光學(xué)場圖引導(dǎo)的point-and-click光學(xué)校準(zhǔn)的快速光路設(shè)置集成光學(xué)系統(tǒng)，使得實驗準(zhǔn)備時間減少到幾分鐘。高性能的AFM掃描器確?？梢栽趻呙杷俾蔬_(dá)10Hz時也獲得高分辨率的紅外成像。對于任何對散射sSNOM技術(shù)、納米級石墨烯研究感興趣的科學(xué)家，或者需要得到高分辨化學(xué)性質(zhì)成像的研究者來說，擁有PeakForce IR技術(shù)的Inspire是您的選擇。
技術(shù)參數(shù)

光路系統(tǒng)
  集成紅外散射SNOM系統(tǒng):
  包含必需的光學(xué)器件, 激光和檢測器;
  高質(zhì)量的寬頻光學(xué)元件;
  低噪音, 液氮冷卻的探測器;
  精確的干涉儀控制系統(tǒng);
  低噪聲量子級聯(lián)激光器光源;
  優(yōu)化的近場采集和激發(fā)光路

AFM掃描頭
  可支持應(yīng)用模塊的AFM掃描頭(可支持所有選擇模式)

掃描器
  125μm x 125μm (X-Y) x 5μm( Z range);  可以根據(jù)需求選擇其他掃描器

控制器
  NanoScopeV 控制臺, 配v9.0 Nanoscope實時控制軟件;
  NanoScope v1.5 分析軟件;
  Windows 7 操作系統(tǒng)

模式
掃描探針紅外模式:
  IR sSNOM 在 TappingMode and PeakForce IR模式下運行
常規(guī)成像模式:
  智能成像模式
  峰值力輕敲模式
  輕敲模式
  接觸模式
  扭轉(zhuǎn)共振模式
  掃描隧道顯微鏡
  摩擦力顯微鏡
  相位成像
可選擇的材料表征模式:
  PeakForce KPFM——納米級熱分析
  導(dǎo)電原子力顯微鏡——液態(tài)成像
  PeakForce TUNA——電化學(xué)原子力顯微鏡
  PeakForce QNM——納米壓痕
  PeakForce Capture——壓電力顯微鏡
  力曲線陣列 ——電場力和磁力顯微鏡