CMSD2000 直接剝離法石墨烯研磨分散機(jī)

直接剝離法石墨烯研磨分散機(jī)是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

石墨烯制造方法  目前石墨烯的主要制備方法包括物理方法和化學(xué)方法兩種。物理方法通常是以廉價(jià)的石墨或膨脹石墨為原料, 通過微機(jī)械剝離法、液相或氣相直接剝離法來制備單層或多層石墨烯。而化學(xué)方法主要有化學(xué)氣相沉積（CVD）、外延生長法、氧化還原石墨法等，各種方法都具有一定的優(yōu)缺點(diǎn)，高效大規(guī)模制備石墨烯的生產(chǎn)方式仍在探索之中。

通常直接把石墨或膨脹石墨（EG)（一般通過快速升溫至1000℃以上把表面含氧基團(tuán)除去來獲取）加在某種有機(jī)溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。Coleman等參照液相剝離碳納米管的方式將石墨分散在N-甲基吡咯烷酮（NMP）中, 超聲1h后單層石墨烯的產(chǎn)率為1%^[16], 而長時(shí)間的超聲(462h)可使石墨烯濃度高達(dá)1.2mg/mL, 單層石墨烯的產(chǎn)率也提高到4%^[17]。 他們的研究表明, 當(dāng)溶劑的表面能與石墨烯相匹配時(shí), 溶劑與石墨烯之間的相互作用可以平衡剝離石墨烯所需的能量, 而能夠較好地剝離石墨烯的溶劑表面張力范圍為40~50mJ/m²；Hamilton 等^[18]把石墨直接分散在鄰二氯苯（表面張力: 36.6mJ/m²）中, 超聲、離心后制備了大塊狀（100~500nm）的單層石墨烯；Drzal 等^[19]利用液−液界面自組裝在三氯甲烷中制備了表面高度疏水、高電導(dǎo)率和透明度較好的單層石墨烯。為提高石墨烯的產(chǎn)率, zui近Hou 等發(fā)展了一種稱為溶劑熱插層（solvothermal-asssisted exfoliation）制備石墨烯的新方法（圖2-5），該法是以EG為原料, 利用強(qiáng)極性有機(jī)溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導(dǎo)作用（dipoleinduceddipole interaction）來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產(chǎn)率提高到10%~12%。同時(shí), 為增加石墨烯溶液的穩(wěn)定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩(wěn)定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。

該方法因以廉價(jià)的石墨或膨脹石墨為原料, 制備過程不涉及化學(xué)變化,液相或氣相直接剝離法制備石墨烯具有成本低、操作簡單、產(chǎn)品質(zhì)量高等優(yōu)點(diǎn), 但也存在單層石墨烯產(chǎn)率不高、片層團(tuán)聚嚴(yán)重、需進(jìn)一步脫去穩(wěn)定劑等缺陷。

石墨烯研磨分散機(jī)

當(dāng)前相對(duì)成熟的技術(shù)分別是，以氧化還原和液相插層為代表的大規(guī)模粉體，和以化學(xué)氣相沉積為代表的大面積薄膜。兩者生產(chǎn)工藝*不同，而產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域也基本不重疊。前者通常以重量來計(jì)，可達(dá)公斤至噸級(jí)，產(chǎn)品剝離效率高、比表面積大、成本低，但缺陷多、可控性差，一般用作鋰電池和超級(jí)電容器電極導(dǎo)電填料，或用于塑料、油墨、涂料、金屬和陶瓷等多種基體的增強(qiáng)或功能填料，形成納米復(fù)合材料。而后者通常以面積來計(jì)量，依托其高透光率和面向電導(dǎo)率，通常作為透明電極用于觸摸屏和光伏等領(lǐng)域。

但是。當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn)，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)?；a(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得第  納米研磨分散機(jī)是由膠體一個(gè)已不是問題，因?yàn)橐延卸鄠€(gè)十噸乃至百噸級(jí)產(chǎn)線投產(chǎn)，規(guī)?；此埔延卸狻Ｊ聦?shí)真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認(rèn)為更重要的是品質(zhì)，因?yàn)樵系钠焚|(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過程可否更綠色？技術(shù)的進(jìn)步永無止境，可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

石墨烯研磨分散機(jī)

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
   

  磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國XX的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（zui高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

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石墨烯研磨分散機(jī)