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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>切割機> 徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀

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徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京悅昌行科技有限公司
  • 品牌 Leica/徠卡
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/11/8 7:02:59
  • 訪問次數(shù) 6657

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北京悅昌行科技有限公司是以光學顯微鏡及其他相關儀器的研發(fā)與銷售為主的科技公司。主營徠卡倒置顯微鏡,徠卡體視顯微鏡,徠卡熒光顯微鏡,徠卡工業(yè)顯微鏡,徠卡金相顯微鏡,生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機照相接口、體視顯微鏡專用冷光源、數(shù)碼圖像處理系統(tǒng)等產(chǎn)品;公司擁有一支由專業(yè)技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供技術咨詢、產(chǎn)品選配、安裝調(diào)試、應用指導、維護保養(yǎng)在內(nèi)的服務。公司長期備有現(xiàn)貨,可以隨時為您提供各種產(chǎn)品選配服務,經(jīng)過近10年的技術積累與發(fā)展,公司在國內(nèi)顯微光學領域已經(jīng)可以獨樹一幟。 公司依托北京大學、清華大學、中國農(nóng)業(yè)大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司技術顧問。


北京顯微鏡,數(shù)碼顯微鏡,生物顯微鏡,熒光顯微鏡,偏光顯微鏡,工業(yè)顯微鏡,金相顯微鏡,體視顯微鏡,顯微數(shù)碼CCD攝像頭,數(shù)碼攝像頭等顯微產(chǎn)品

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
儀器種類 精密切割機 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),制藥

新版徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀注重實用性的方式將性能和靈活性理想融合, 切割速度翻倍,根據(jù)您的應用需求提供五種不同的載物臺供您選擇,實用性得到進一步提升。


徠卡EM TIC 3X三離子束切割儀主要優(yōu)勢

1:SiC 研磨紙的橫切面 l 

2:膠合板的橫切面 l 

3:-120°C 條件下制備的同軸聚合物纖維 (溶于水) l 

4:通過 Leica EM TIC 3X (配旋轉(zhuǎn)載物臺) 處理展現(xiàn)的油頁巖 (納米孔),總樣品直徑為 25 mm

可復制的結果

Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面,用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結構分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。

使用 Leica EM TIX 3X,您幾乎可以在室溫或冷凍條件下,對任何材料實現(xiàn)高品質(zhì)的表面處理,盡可能顯示樣品近自然狀態(tài)下的內(nèi)部結構。

效率

對于離子束研磨機的效率來說,真正重要的是同時具備出色的品質(zhì)結果和高產(chǎn)量。與前代版本相比,全新版本不僅切割速度提高了一倍,其*的三離子束系統(tǒng)還優(yōu)化了制備質(zhì)量,并縮短了工作時間。一次可處理樣品多達 3 個, 并可在同一個載物臺上進行橫切和拋光。

工作流程解決方案可安全、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。



靈活的系統(tǒng) — 隨時滿足您的需求

憑借可靈活選擇的載物臺,Leica EM TIC 3X 不僅是進行高產(chǎn)量處理的理想設備,還適用于委托檢測的實驗室。根據(jù)您的需求,可選擇以下可互換的載物臺對 Leica EM TIC 3X 進行個性化配置:

• 標準載物臺
• 多樣品載物臺
• 旋轉(zhuǎn)載物臺
• 冷卻載物臺或
• 真空冷凍傳輸對接臺

用于制備標準樣品、高產(chǎn)量處理,以及在低溫條件下制備對高溫異常敏感的樣品,例如聚合物、橡膠或生物材料。


環(huán)境控制型工作流程解決方案

憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對接臺接口,可為易受環(huán)境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程,此類樣品包括生物材料、地質(zhì)材料或工業(yè)材料。

隨后,這些樣品會在惰性氣體/真空/冷凍條件下,被傳輸至我們的鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)。

標準的工作流程解決方案 — 與 Leica EM TXP 產(chǎn)生協(xié)同效應。

在使用 Leica EM TIC 3X 之前,通常需要進行機械準備工作,以便盡可能接近感興趣區(qū)域。Leica EM TXP 是一種*的標靶面拋光系統(tǒng),開發(fā)用于樣品的切割和拋光,為 Leica EM TIC 3X 等儀器進行后續(xù)技術處理做好充分準備。

Leica EM TXP 經(jīng)專業(yè)設計,利用鋸切、銑削、研磨和拋光技術對樣品進行預制。 對于需要精準定位以及難以制備的挑戰(zhàn)性樣品,它能提供出色的結果,令處理變得輕松簡單。




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