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DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)

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光刻機(jī)

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上海昊量光電設(shè)備有限公司  
Aunion Tech Co., Ltd
專業(yè)源自專注  專注成就未來(lái)

自2008年成立以來(lái),昊量光電專注于光電領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)與產(chǎn)品經(jīng)銷,致力于引進(jìn)guo外*先進(jìn)性與創(chuàng)新性的光電技術(shù)與可靠產(chǎn)品,為國(guó)內(nèi)Z前沿的科研與工業(yè)領(lǐng)域提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),助力中國(guó)智造與中國(guó)創(chuàng)造! 目前,昊量光電已經(jīng)與來(lái)自美國(guó)、歐洲、日本的多家光電產(chǎn)品制造商建立了緊密的合作關(guān)系。其代理品牌均處于相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展前沿,產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器、光學(xué)測(cè)量設(shè)備、精密光學(xué)元件等,所涉足的領(lǐng)域涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學(xué)研究與國(guó)防等。

昊量光電堅(jiān)持“專業(yè)源自專注,專注成就未來(lái)”的經(jīng)營(yíng)理念。近年來(lái),我們專注于前沿的細(xì)分市場(chǎng),為量子光學(xué)、生物顯微、物聯(lián)傳感、精密加工、先進(jìn)激光制造等領(lǐng)域的客戶提供系統(tǒng)解決方案。

作為一家以技術(shù)溝通與技術(shù)服務(wù)見(jiàn)長(zhǎng)的高科技企業(yè),我們所有的銷售與技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)成員都具有理工科方面的專業(yè)背景,并在公司接受相關(guān)領(lǐng)域的專業(yè)培訓(xùn),在售前技術(shù)溝通、售后產(chǎn)品安裝培訓(xùn)、產(chǎn)品問(wèn)題解決、軟硬件增值服務(wù)等方面為客戶提供更加專業(yè)化的服務(wù)!我們專業(yè)高效的商務(wù)與物流部門憑借多年積累的貿(mào)易經(jīng)驗(yàn)與規(guī)范化的制度流程,保障每一筆訂貨準(zhǔn)時(shí)安全到達(dá)目的地,免除客戶的后顧之憂!

秉承誠(chéng)信、高效、創(chuàng)新、共贏的核心價(jià)值觀,昊量光電堅(jiān)持以誠(chéng)信為基石,憑借高效的運(yùn)營(yíng)機(jī)制和勇于創(chuàng)新的探索精神為我們的客戶與與合作伙伴不斷創(chuàng)造價(jià)值,實(shí)現(xiàn)各方共贏!

立足于光電產(chǎn)業(yè),昊量光電始終堅(jiān)持價(jià)值創(chuàng)造與創(chuàng)新,贏得客戶與合作伙伴的認(rèn)可,不斷拓展業(yè)務(wù)領(lǐng)域的新邊疆,立志打造的代理服務(wù)品牌!



激光器調(diào)制器,激光測(cè)量加工設(shè)備,光學(xué)部件,光譜儀,光纖器件,晶體,精密定位系統(tǒng)掃描系統(tǒng),探測(cè)器光子計(jì)數(shù)器,專用實(shí)驗(yàn)設(shè)備,相機(jī)

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子/電池

DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)無(wú)需制造掩膜,采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),除此之外DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)使用365nmLED光源,降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡,一次曝光面積可達(dá)1mm´0.6mm,曝光時(shí)間僅需1s。結(jié)合電動(dòng)移動(dòng)平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,分辨率可達(dá)到3mm??赏ㄟ^(guò)公司編寫的軟件完成詳細(xì)設(shè)定,使操作簡(jiǎn)潔方便。

 

DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)與傳統(tǒng)的光刻機(jī)不同,AU-PALET光刻機(jī)采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù),無(wú)需制造掩膜。大大降低了時(shí)間和成本。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件,直接進(jìn)行光刻。除了CAD文件,還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù),例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

 

 

 

AU-PALET DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)采用短波段的LED燈為光源,相對(duì)于其它的光源,擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命,降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無(wú)掩膜光刻機(jī)為面曝光,采用10倍的物鏡,一次曝光面積可達(dá)到1mm´0.6mm,結(jié)合電動(dòng)平移臺(tái)可實(shí)現(xiàn)曝光拼接,可達(dá)到更大的曝光面積。可通過(guò)公司編寫的軟件完成簡(jiǎn)單操作和詳細(xì)設(shè)定,操作簡(jiǎn)潔方便。

 

設(shè)備有限公司推出的DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)有兩種。

 

①  AU-PALET是一款快速光刻的無(wú)掩膜光刻機(jī)。本裝置采用375nm的LED光源,實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,光刻分辨率達(dá)到5mm,并在10s 內(nèi)完成曝光。

②  

 

 

②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升級(jí)版本,在光源上采用波長(zhǎng)更短的365nm的LED燈作為光源,采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm,光刻分辨率達(dá)到3mm,并在1s 內(nèi)完成曝光。

 

 

 

u  主要特點(diǎn)

  • 高速度(1s)

  • 廣范圍(1´0.6mm)

  • 365nm LED光源

  • 高分辨率 (3mm)

  • 成本低

 

u  主要應(yīng)用

磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成

傳感器,半導(dǎo)體器件的制作

MEMS器件的試制、

光電子,LED的試制

微流體器件的試制

掩膜版制作

細(xì)胞分離通道等的制作

光波導(dǎo)路的制作

 

 

 

 

主要參數(shù)

型號(hào)

參數(shù)

AU-PALET

AU-PALET_new

光源

375nm LED

365nm LED

光刻分辨率(使用10倍物鏡)

5 mm

3 mm

曝光面積(使用10倍物鏡)

1mm´0.6mm

1mm´0.6mm

平臺(tái)

手動(dòng)XYZq平臺(tái)

手動(dòng)XYZq平臺(tái)

構(gòu)成

裝置本身,電腦, 軟件

裝置本身,電腦, 軟件

外形尺寸

420(W) x 300(D) x 600(H)

300(W) x 450(D) x430(H)

選項(xiàng)

2x鏡頭,電動(dòng)平臺(tái)等

2x鏡頭,電動(dòng)平臺(tái)等

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