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NaU-E650型 X熒光光譜儀

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X熒光光譜儀

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納優(yōu)科技(北京)有限公司

專業(yè)從事X射線熒光分析(XRF)技術自主研究開發(fā),XRF分析設備生產(chǎn)、銷售的科技型企業(yè);

公司的生產(chǎn)基地設立于江西,在深圳、蘇州等地區(qū)設立有分支機構。

作為中國XRF分析技術領域*核心創(chuàng)新能力的研發(fā)團隊,納優(yōu)科技的技術團隊從1987年開始承擔并圓滿完成了三項中國政府XRF科技攻關項目---國家“七•五”科技攻關項目(EDXRF)、國家“九•五”科技攻關項目(WDXRF)、國家“十一•五”科技支撐項目(偏振二次靶EDXRF),

現(xiàn)在正在承擔國家政府部門*XRF設備研發(fā)項目。

納優(yōu)科技的研發(fā)團隊是中國XRF分析技術自主技術研發(fā)的*和*,曾獲得*屆中國科技大會獎、國家科技進步三等獎、部級科技進步二等獎等多項*及省部級獎勵,擁有多項XRF分析技術相關的及多項軟件著作權。

*以來,公司不僅注重于應用技術和產(chǎn)品的研發(fā),也同樣注重相關基礎理論和基礎分析方法的研究,通過不斷的自主創(chuàng)新,保證了公司的技術水平與*水平同步。

xrf分析儀

價格區(qū)間 面議 行業(yè)專用類型 通用
儀器種類 臺式/落地式

NaU-E650型 X熒光光譜儀主要應用特點:

采用納優(yōu)專業(yè)技術的全新光路設計,顯著抻高分析精度和數(shù)據(jù)可靠性,減小灰色地帶區(qū)間,節(jié)省外送檢測成本;

行業(yè)內(nèi)全配置的12組濾光片(行業(yè)內(nèi)一般配置≤8組),實現(xiàn)大自動精度選擇空間。

提供開放式工作曲線標定技術平臺,可為用戶量身定做有害物質(zhì)檢測和控制方案;

全自動一鍵式操作-載物平臺、樣品室、準直器、濾光片、照射光斑定位等全部自動操作;

測試時間在100-400秒間自行設定(系統(tǒng)自動默認設定200秒);

經(jīng)典可靠的迷宮式輻射防護結構,結合軟硬件多重保護,確保輻射安全性能;

測量元素范圍:Na-U.

NaU-E650型 X熒光光譜儀主要應用技術指標:

(針對RoHS指令要求,按照*電子信息產(chǎn)品污染控制技術促進中心《RoHS檢測用X熒光能譜儀性能評價規(guī)范RoHSQ09-005》的定義和測試方法,篩選測試各種中的Pb、Cd、Hg、CrBrCl)

NaU-E650 進行XRF篩選允收標準示例(*值,按照IEC62321Edition 1.0 2008-12 標準帛定)。



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