FERA3雙束掃描電鏡 FERA3雙束掃描電鏡
- 公司名稱 TESCAN泰思肯貿(mào)易(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) FERA3雙束掃描電鏡
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2019/6/13 11:28:47
- 訪問次數(shù) 488
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價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 冷場發(fā)射 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保 |
FERA3雙束掃描電鏡離子束流高達(dá) 2 µA,因此其濺射速度是傳統(tǒng) Ga 離子源的 50 倍以上,這使得 FERA3 成為完成耗時(shí)過長或幾乎不可能實(shí)現(xiàn)的大體積銑削任務(wù)的理想設(shè)備。
在 FIB-SEM 系統(tǒng)中,電子和離子束的焦點(diǎn)可以重合,從而可以對(duì)多種實(shí)際應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化。這一特征使得其在 FIB 銑削任務(wù)期間能夠同時(shí)進(jìn)行 SEM 成像——這使得在完成*精度要求的 FIB 操作時(shí),性能和吞吐量都有了巨大飛躍。同時(shí),F(xiàn)ERA3 配備有高性能的電路系統(tǒng)以用于更快的圖像采集,超快速的靜態(tài)和動(dòng)態(tài)圖像畸變補(bǔ)償掃描系統(tǒng)以及用戶自定義內(nèi)置應(yīng)用程序腳本等。
FERA3雙束掃描電鏡
突出特點(diǎn)
現(xiàn)代電子光學(xué)系統(tǒng)
- Wide Field Optics™設(shè)計(jì),利用中間鏡 ( IML) 技術(shù)使掃描電鏡具有多種操作和顯示模式,如大視野模式、景深增強(qiáng)模式等;
- 實(shí)時(shí)電子束追蹤技術(shù)(In-Flight Beam Tracing™),可實(shí)現(xiàn)性能及電子束的優(yōu)化,同時(shí)直接連續(xù)調(diào)節(jié)控制電子束參數(shù);
- 全自動(dòng)電子光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)置與對(duì)中;
- 極快速的圖像采集速率,高達(dá) 20 ns;
- 應(yīng)用3D 電子束技術(shù)可實(shí)現(xiàn)*的實(shí)時(shí)立體成像觀察,開啟驚奇的 3D 體驗(yàn)及 3D 導(dǎo)航微納世界之旅;
極其強(qiáng)大的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒
高電子回旋共振(High-ECR)產(chǎn)生的 Xe 等離子源 FIB 鏡筒,可完成 Ga 離子源 FIB 在納米工程領(lǐng)域不能完成的任務(wù)
- 濺射速率比 Ga 液態(tài)金屬離子源快 50 倍;
- 離子束流范圍:1 pA ~ 2 µA, 分辨率:< 25 nm;
- 新研發(fā)的高分辨率 Xe 等離子體 FIB 鏡筒(選配),分辨率優(yōu)于15nm,進(jìn)一步增強(qiáng)刻蝕能力;
- 大重量的 Xe 等離子具備更大的 FIB 電流范圍,在無氣體輔助增強(qiáng)的條件下也可實(shí)現(xiàn)超快濺射
- 相較于 Ga 液態(tài)金屬離子源,離子注入效應(yīng)顯著減少;
- Xe 惰性氣體原子不會(huì)改變圖樣區(qū)域附近的電學(xué)性能;
- 銑削過程中無金屬間化合物形成。