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CP-6 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京中精儀科技有限公司
  • 品牌 RTEC
  • 型號(hào) CP-6
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/9/24 10:43:05
  • 訪問(wèn)次數(shù) 7099

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北京中精儀科技有限公司是一家致力于提供先進(jìn)的科研生產(chǎn)測(cè)試儀器及相關(guān)技術(shù)咨詢服務(wù)的科技企業(yè), 公司由來(lái)自美國(guó)的相關(guān)領(lǐng)域資深專家成立, 公司總部設(shè)在美國(guó)加州硅谷地區(qū)。

公司多年來(lái)秉承著“精益求精”的經(jīng)營(yíng)理念,為中國(guó)高等院校、科研機(jī)構(gòu)、生產(chǎn)企業(yè)配備了大量先進(jìn)的專業(yè)儀器。提供了高水平、專業(yè)化的技術(shù)產(chǎn)品及高質(zhì)量的售后服務(wù)。

公司銷售的產(chǎn)品涉及到:

(1)材料力學(xué)試驗(yàn)機(jī):摩擦磨損試驗(yàn)機(jī),耐磨試驗(yàn)機(jī),真空試驗(yàn)機(jī),電化學(xué)腐蝕試驗(yàn)機(jī),疲勞試驗(yàn)機(jī),彎曲扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī),微納劃痕儀、壓痕儀,高溫微米壓痕儀等。

 

(2)材料表面分析 :三維形貌儀,白光干涉儀,激光共聚焦顯微鏡,原子力顯微鏡等。

(3)半導(dǎo)體設(shè)備/CMP :原子層沉積系統(tǒng)(ALD),MBE分子束外延系統(tǒng),激光脈沖沉積(PLD),物理氣相沉積系統(tǒng)(PVD),化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備(CMP)等。

(4)生化儀器:激光拉曼光譜儀等

(5)扭矩測(cè)試:多功能扭矩測(cè)試儀,電機(jī)扭矩測(cè)試儀,軸承扭矩測(cè)試儀等。

多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī),形貌儀,輪廓儀,摩擦儀,

  概述:
  RTEC化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6采用專業(yè)的方式研究和表征CMP工藝。 除了拋光晶圓和基板外,測(cè)試儀還配有在線表面輪廓儀。這種組合提供了有關(guān)表面、摩擦、磨損等變化的原因和方式的信息。測(cè)試儀還可以測(cè)量幾個(gè)內(nèi)聯(lián)參數(shù),如摩擦力、表面粗糙度、磨損量等,以便詳細(xì)了解過(guò)程。

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

  特點(diǎn):
  1.集成的共聚焦3D顯微鏡,可以用nm分辨率表征拋光墊表面;
  2.內(nèi)聯(lián)摩擦、聲發(fā)射研究拋光過(guò)程;
  3.內(nèi)聯(lián)溫度傳感器;
  4.可安裝多種晶圓尺寸;
  5.可控制的下壓力和速度。
  標(biāo)準(zhǔn)配置有X,Y平臺(tái),可在拋光和成像位置之間移動(dòng)壓板。此外,XY平臺(tái)有助于在拋光過(guò)程中振蕩晶圓。使用帶有XY驅(qū)動(dòng)器的壓板允許多軸驅(qū)動(dòng)組合來(lái)創(chuàng)建自定義運(yùn)動(dòng),以模擬接近現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)環(huán)境的測(cè)試條件。
  內(nèi)聯(lián)傳感器:
  1.扭矩 - 高分辨率內(nèi)聯(lián)扭矩傳感器可實(shí)現(xiàn)端點(diǎn)定位,并實(shí)時(shí)表征表面;
  2.聲學(xué) - 聲音信號(hào),允許定性終點(diǎn)或幫助檢測(cè)拋光過(guò)程中的碎片、缺陷;
  3.溫度 - 焊盤和靠近晶圓拋光表面的區(qū)域的在線溫度監(jiān)控有助于研究去除機(jī)制。
  可編程負(fù)載、速度:
  為了優(yōu)化過(guò)程,CP-6允許使用基于配方的軟件控制和改變力、速度、流速。
  易于使用:
  摩擦測(cè)量?jī)x配有快換載體,可輕松安裝晶圓和焊盤。該軟件帶有預(yù)定義的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)配方,或者可以輕松創(chuàng)建新的自定義配方。
  集成在線3D輪廓儀:

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)


  Rtec化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)配有內(nèi)聯(lián)集成的3D輪廓儀。經(jīng)過(guò)優(yōu)化,可以表征具有nm分辨率的拋光墊表面。探測(cè)器配有共焦模式+干涉儀模式+暗場(chǎng)和明場(chǎng)模式。 這允許以nm分辨率研究表面變化與時(shí)間的關(guān)系。該測(cè)試儀允許在大表面積上自縫合,以進(jìn)行體積磨損,粗糙度計(jì)算。

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)




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