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MD-40 電腦式HMDS 涂膠機(jī) 顯微鏡

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 蘇州銳納微光學(xué)有限公司
  • 品牌 OLYMPUS/奧林巴斯
  • 型號 MD-40
  • 產(chǎn)地 蘇州
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2023/12/1 14:04:20
  • 訪問次數(shù) 1551

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蘇州銳納微光學(xué)有限公司是一家從事光學(xué)、機(jī)械、電子精密測量儀器集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的和服務(wù)等一體化高科技企業(yè)。
銳納微光學(xué)以對高品質(zhì)的不斷追求,良好的客戶服務(wù),其雄厚的實力和在業(yè)界良好的信譽(yù),成為LEICA,NIKON,OLYMPUS,UNION等光學(xué)顯微鏡銷售,工業(yè)測定儀器和相關(guān)電子元件等的合作伙伴。
銳納微光學(xué)擁有一批專業(yè)應(yīng)用技術(shù)人員, 能給客戶提供Z為實用的專業(yè)咨詢, 維修工程師能提供更有成效的跟蹤售后服務(wù).對LCD、PCB、FPC、MEMS、半導(dǎo)體、顯示設(shè)備、IC封裝、Lead Frame、精密零件、光纖通訊、 LED產(chǎn)業(yè)醫(yī)療器械等行業(yè)所涉及到顯微檢查,測量尺寸,分析結(jié)果等應(yīng)用有成熟的經(jīng)驗和獨(dú)到的見解。因此, 您有理由相信我們給您提供的產(chǎn)品必定給您帶來較大的效益, 為您節(jié)省更多的資源。讓我們成功的成為合作關(guān)系,共同努力進(jìn)取。
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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

電腦式HMDS 涂膠機(jī) HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

電腦式HMDS 涂膠機(jī)

一、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域:在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS。作用:降低HMDS處理后的硅片接觸角,進(jìn)而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度,提高光刻膠與硅片的黏附性,降低光刻膠的用量。

二、HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的原理: 預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

三、 HMDS 預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程: 1. 首先設(shè)定烘箱工作溫度。

2. 待腔體三面加熱箱體使溫度達(dá)到150(或設(shè)定溫度)度左右

3. 開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。

4. 打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到設(shè)定真空度后

5. 開始充入氮?dú)猓涞獨(dú)獾竭_(dá)到設(shè)定真空度后,

6. 再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,

 

 

7. 然后再次開始抽真空到進(jìn)藥夜真空值,

8. 加熱HMDS管道,

9. 充入HMDS氣體到達(dá)設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,

10. 進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。

11. 當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空,充氮?dú)猓?

12. 反復(fù)數(shù)次到設(shè)定次數(shù),完成整個作業(yè)過程。

 

電腦式HMDS 涂膠機(jī) 說明:去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)

五. 尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。

 

在無廢氣收集管道時需做專門處理。

六. 主要技術(shù)指標(biāo):

6.1 機(jī)外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板,烤漆制造,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分

布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門

觀察工作室內(nèi)物體一目了然。

6.2 箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。

6.3 微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫精確,

可靠。

6.4 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,

真空度及每一程序時間。

6.5 HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏

顧慮。整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造,無發(fā)塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境。

6.6 HMDS管路加熱功能,使HMDS液體進(jìn)入箱體的前端管路加熱,使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)

時更易.

6.7 低液報警裝置,采用的液體感測器,能及時靈敏給出指令(當(dāng)HMDS

液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能)

6.8 溫度與PLC聯(lián)動保護(hù)功能(當(dāng)PLC沒有啟動程序時,加溫功能啟動不了,相反

加溫功能啟動時,PLC程序不按正常走時也及時切斷工作功能,發(fā)出警報)

6.9整個箱體及HMDS氣體管路采用SUS316醫(yī)用不銹鋼材料,整體使用無縫焊接

(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對人體的傷害)

七、整機(jī)尺寸、真空腔體尺寸:7.1 內(nèi)膽尺寸:450X450X450mm) 外尺寸W1030*H1730*L900mm 容積:90L

7.2 載物托架:2塊

7.3 室溫+30℃-200℃(高溫度250℃)

控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃ 溫度波動度:±0.5℃

7.4 真空泵:采用防油泵,旋片式油泵真空度:133pa,

7.5 加熱方式:腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板 7.6 可放2寸晶圓片,4寸晶圓片,6寸晶圓片,8寸晶圓片,12寸晶圓片;

7.7開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按

產(chǎn)品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規(guī)降溫));

7.8 外殼采優(yōu)質(zhì)冷軋銹鋼板烤漆處理,內(nèi)膽采不銹鋼采用SUS316材質(zhì)。

八. 安全保護(hù)措施: 安全可靠的接地保護(hù)裝置;工作室超溫保護(hù); 加熱器短路保護(hù)。

九、設(shè)備使用條件

9.1 環(huán)境條件:溫度5~35℃;濕度:≤85%R.H;

9.2電源:電源電壓:AC220V±10%/50Hz±2%    輸入功率:2400W

9.3 排風(fēng)要堿性廢氣排風(fēng)(廢氣要處理);

9.4 接氣:ø8快接

十. 配備技術(shù)資料及附件:技術(shù)資料、產(chǎn)品合格證、使用說明書、電氣原理圖等。

十一. 包裝及運(yùn)輸方式包裝:滿足要求的運(yùn)輸包裝箱;運(yùn)輸方式:公路運(yùn)輸。

十二. 驗收標(biāo)準(zhǔn)及方法

12.1 驗收標(biāo)準(zhǔn):雙方簽定之技術(shù)協(xié)議書或國家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn);

12.2 驗收方法:在需方現(xiàn)場進(jìn)行正式驗收。

十三. 售后服務(wù):設(shè)備驗收合格之日起,保修一年,在保質(zhì)期內(nèi)除人為損壞外免費(fèi)維修,不收取任

何費(fèi)用,終身提供維修。(注:箱體密封圈屬易損耗件,不屬于保修范圍。請另行購買。)

十四、產(chǎn)品如圖:

 



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