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omni高靈敏度Zeta電位及粒度分析儀

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粒度分析儀

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近紅外光譜儀、拉曼光譜儀、等離子清洗機(jī)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生

Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀*結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS(Phase Analysis Scattering,相位分析光散射)技術(shù),擁有15°、90°與173°三個散射角度,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測量的局限性,硬件PALS技術(shù)*解決了低電泳遷移率體系Zeta電位的精確測量,是目前市場上功能強(qiáng)大的粒度與Zeta電位分析儀。

omni高靈敏度Zeta電位及粒度分析儀?作先將背向光散射技術(shù)(Back-Scattering)引入高濃度粒度分析的廠家,Brookhaven公司應(yīng)用全新的光纖技術(shù)將背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動態(tài)光散射技術(shù)進(jìn)行了*結(jié)合,突破性地推出了結(jié)合15°、90°與173°三個散射角度與硬件PALS(相位分析光散射)技術(shù)的Omni多角度粒與高靈敏度Zeta電位分析儀。隨著Omni的出現(xiàn),突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測量的局限性,實現(xiàn)在同一臺粒度分析儀中,既可以同時兼顧大、小顆粒的散射光信號,又可以有效地提高了測量濃度上限,高可達(dá)40%wt;硬件PALS技術(shù)(與傳統(tǒng)基于頻移技術(shù)的光散射方法相比,靈敏度可提高1000倍)的應(yīng)用,*解決了*以來無法對諸如在低介電常數(shù)、高粘度、高鹽度以及等電點附近這些測量條件下(電泳遷移率比通常水相條件下低10-1000倍,omni高靈敏度Zeta電位及粒度分析儀?傳統(tǒng)方法沒有足夠的分辨率進(jìn)行測量)的樣品進(jìn)行分析的難題。Omni是目前市場上功能強(qiáng)大的粒度與Zeta電位分析儀。



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