TMC CleanTop®系列光學(xué)平臺(tái) 森泉光電

TMC CleanTop®系列光學(xué)平臺(tái) 森泉光電

產(chǎn)品介紹

TMC的光學(xué)工作臺(tái)和隔離系統(tǒng)提供性能和剛度，這得益于其du,特的全鋼結(jié)構(gòu)和目前市面上zui,高的核心密度和zui,小的蜂窩面積。

CleanT,o,p®性能系列光學(xué)平臺(tái)有三個(gè)級(jí)別阻尼性能的產(chǎn)品，以及各種te,殊用例的配置選項(xiàng)。單個(gè)的光學(xué)平臺(tái)可以通過機(jī)械耦合，創(chuàng)建復(fù)雜的光學(xué)平臺(tái)形狀，而不損失阻尼性能。

產(chǎn)品系列

784性能系列研究級(jí)CleanTop®光學(xué)平臺(tái)

特點(diǎn)：

• 提供zui,佳結(jié)構(gòu)阻尼性能。

• 研究級(jí)的阻尼性能將zui,小的單元尺寸和zui,高的核心密度與du,特的CleanT,o,p®設(shè)計(jì)、全鋼結(jié)構(gòu)和商業(yè)上可獲得的高水平的結(jié)構(gòu)阻尼相結(jié)合。

• 推薦用于苛刻的應(yīng)用，包括干涉儀，全息攝影，超快激光，以及嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境。

• 為了獲得整體振動(dòng)控制，可以考慮將這個(gè)頂部與LaserTable-Base™支架結(jié)合，這是一種混合空氣/壓電的兩級(jí)振動(dòng)xiao,除系統(tǒng)。

783性能系列科研級(jí)CleanTop®光學(xué)平臺(tái)

特點(diǎn)：

• 提供標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)阻尼性能。

• 具有與研究級(jí)相同的設(shè)計(jì)特點(diǎn)，包括核心尺寸和密度，清潔頂杯，以及全鋼減振結(jié)構(gòu)。

• 科研級(jí)阻尼的峰值合規(guī)水平約超過研究級(jí)阻尼的峰值合規(guī)水平4倍。

781性能系列實(shí)驗(yàn)室級(jí)CleanTop®光學(xué)平臺(tái)

特點(diǎn)：

• 提供一般結(jié)構(gòu)阻尼性能。

• 具有與研究級(jí)相同的設(shè)計(jì)特點(diǎn)，包括核心尺寸和密度，清潔頂杯，以及全鋼減振結(jié)構(gòu)。

• 在不太嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境中，為敏感性一般的應(yīng)用提供經(jīng)濟(jì)的阻尼性能水平。

• 實(shí)驗(yàn)室級(jí)CleanT,o,p®光學(xué)平臺(tái)適用于主要要求為剛性、平坦安裝表面的一般實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

790系列超凈間定制

特點(diǎn)：

• 英制3/16孔，孔距5毫米，表層厚

• 兩級(jí)固定阻尼

• 每個(gè)沉頭孔下設(shè)置有獨(dú)立的密封杯

• 頂部，底部，側(cè)面均為不銹鋼

• 兼容潔凈室的設(shè)計(jì)和包裝

710系列無磁定制

特點(diǎn)：

• 1.0.0%采用304合金，316不銹鋼外殼(非磁性)。

• 0.165英寸厚的頂部和底部表層。

• CleanT.o.p專有的防泄漏螺 紋孔設(shè)計(jì)。

TMC CleanTop®系列光學(xué)平臺(tái) 森泉光電

產(chǎn)品規(guī)格

核心：鋼蜂窩，封閉結(jié)構(gòu)，0.2毫米厚金屬擋板

核心剪切模量：275,000 PSI (19300 kg/cm2)

鋼蜂單元尺寸：<0.5 in.2 (3 cm2)

鋼蜂密度：13.3 lb/ft3 (230 kg/m3)

平整度：整體螺紋孔周邊范圍內(nèi)+/-0.13 mm，其余表面近60×60 cm的面積+/-0.1 mm。

頂部材質(zhì)：400系列3/16英寸(5 mm)厚不銹鋼

                790系列厚3/16英寸(5 mm) 厚不銹鋼

                710系列3/16英寸(5 mm)厚316合金不銹鋼

側(cè)壁：涂有乙烯基的阻尼成形鋼槽

         790系列內(nèi)表面有阻尼的不銹鋼。

         710系列內(nèi)表面有阻尼的乙烯基復(fù)合材料。

沉頭孔：1英寸(25 mm)長(zhǎng)CleanT,o,p尼龍杯（可選配鋼杯）

應(yīng)用案

森泉為您的科研事業(yè)添磚加瓦：

激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

探測(cè)器：光電探測(cè)器、單光子計(jì)數(shù)器、單光子探測(cè)器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、多維位移臺(tái)、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、微型操作器等等

光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

光機(jī)械件：用于光路系統(tǒng)搭建的 gao 品 zhi 無應(yīng)力光機(jī)械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等

光學(xué)平臺(tái)：主動(dòng)隔振平臺(tái)、氣浮隔振臺(tái)、實(shí)驗(yàn)桌、剛性工作臺(tái)、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等

光學(xué)元件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等