醫(yī)療器械清洗用超純水設(shè)備
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品,電子,紡織皮革,制藥 |
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醫(yī)療器械清洗用超純水設(shè)備的脫鹽核心部件為進(jìn)口反滲透膜組件,超純水系統(tǒng)設(shè)備通常由預(yù)處理部分,反滲透主機(jī)部分,后處理部分共同組成。設(shè)備出水的電導(dǎo)率在0.1us/cm(電阻值在10兆歐姆)以上。被制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解行業(yè)、化工行業(yè)和太陽能光伏行業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
工藝流程
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)。
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(新工藝)。
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)。
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)以上工藝各有各的優(yōu)勢,你可以根據(jù)你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學(xué)的發(fā)展,很多新的工藝已經(jīng)替代了舊的工藝。用反滲透法制取高純水已經(jīng)普及,也是較為現(xiàn)今的工藝。
優(yōu)點(diǎn)
EDI超純水設(shè)備被制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解行業(yè)、化工行業(yè)和太陽能光伏行業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn):
1.離子交換樹脂的用量少,約相當(dāng)于傳統(tǒng)離子交換法樹脂用量的5%。
2.離子交換樹脂不需酸,堿化學(xué)再生,節(jié)約大量酸、堿和清洗用水,大大降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
3.無廢酸、廢堿液排放,是清潔的生產(chǎn)技術(shù),屬環(huán)保產(chǎn)品。
4.過程易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,與RO等水處理技術(shù)相結(jié)合,能形成完善的純水、超純水生產(chǎn)線。
5.產(chǎn)水水質(zhì)高,可達(dá)到國家電子級水I級標(biāo)準(zhǔn),電阻率為15~18MΩ·cm,細(xì)菌內(nèi)毒素 含量小于0.1mg/L可*滿 足《中國藥典》《美國藥典》對藥用水的要求。
6.有優(yōu)異的除弱解離物質(zhì)(如二氧化碳、硅、硼、氨等)地能力,更適用于超純水的需要。
7.純水生產(chǎn)過程連續(xù)進(jìn)行,無需像離子交換床那樣一套在用一套再生地重復(fù)設(shè)置
醫(yī)療器械清洗用超純水設(shè)備用途
1、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗。
2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。
3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)。
4、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。
5、電路板的生產(chǎn)和清洗。
6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)。