| 我們是誰(shuí) 上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱：復(fù)享光學(xué)）是中國(guó)*的光譜分析與制程檢測(cè)供應(yīng)商，在微納光電子與生命科學(xué)等領(lǐng)域，為客戶提供優(yōu)質(zhì)的光譜解決方案。公司成立于2011年，總部坐落于上海楊浦，在北京和倫敦分別設(shè)有辦事處和分公司。 復(fù)享光學(xué)是由技術(shù)與市場(chǎng)雙引擎驅(qū)動(dòng)的高科技企業(yè)，崇尚賦能與承諾的開放文化。我們的團(tuán)隊(duì)由諸多領(lǐng)域的高層次人才組成，985院校畢業(yè)生占比超過(guò)70%，博士成員9人。 復(fù)享光學(xué)于2016年登錄新三板。
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愿景與使命 光譜改變生活，是復(fù)享光學(xué)創(chuàng)立的愿景，是我們追求的至高目標(biāo)。我們相信，光譜因其對(duì)光、物質(zhì)和結(jié)構(gòu)的天然敏感，將會(huì)在科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)、生產(chǎn)制造和大眾生活中發(fā)揮更為重要的作用，并終改變我們的生活形態(tài)，提升生活品質(zhì)。 復(fù)享光學(xué)立志發(fā)展“全光譜”技術(shù)，簡(jiǎn)化科研與制程場(chǎng)景下所面臨的復(fù)雜問(wèn)題。讓光譜簡(jiǎn)單，是我們每天的使命與追求。
產(chǎn)品與服務(wù) 復(fù)享光學(xué)在光譜分析行業(yè)深耕10年，在微型光譜儀、角分辨光譜和共焦光譜方面，擁有獨(dú)到且具有新穎性的技術(shù)，具有強(qiáng)大的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。 2020年，復(fù)享光學(xué)獲批成立“上海微納制程智能檢測(cè)工程中心(SERCOM)”，專業(yè)定位于在包括集成電路芯片、光芯片、生物芯片、AR/VR 和*顯示等微納制造領(lǐng)域，為產(chǎn)業(yè)提供檢測(cè)技術(shù)服務(wù)。
公司優(yōu)勢(shì) 復(fù)享光學(xué)的發(fā)展具有堅(jiān)實(shí)的研發(fā)支撐。公司擁有近千平方米的省部級(jí)工程技術(shù)研究中心，與高校、研究院所合作建有5個(gè)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，共同圍繞微納技術(shù)開展深入研究。 得益于持續(xù)的研發(fā)投入，公司累計(jì)承擔(dān)了十余項(xiàng)國(guó)家及省部級(jí)科技項(xiàng)目，擁有高/新技術(shù)企業(yè)資質(zhì)、上海市優(yōu)/秀技術(shù)帶頭人、上海市專精特新中小企業(yè)、楊浦區(qū)科技小巨人等稱號(hào)。 截至2019年，公司共獲得43項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)，2項(xiàng)技術(shù)成果轉(zhuǎn)化，在光譜技術(shù)微型化、角分辨光譜、共焦光譜和深度學(xué)習(xí)等方面均擁有關(guān)鍵專/利，是“全光譜+人工智能”技術(shù)的首倡者 之一。 |
 美國(guó)*&工程院院士 Prof. E. Yablonovitch（左圖）；時(shí)任上海市委書記、市長(zhǎng)*一行（右圖） |
光譜儀、熒光光譜儀、顯微光譜儀、積分球透過(guò)率儀、顯微分光光度計(jì)
| 按探測(cè)器 | CCD | 光譜范圍 | 可見,380~1050nm / 900~1700nm,可切換nm |
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| 光譜范圍 | 可見,380~1050nm / 900~1700nm,可切換nm | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子 |
 AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng) |
典型應(yīng)用領(lǐng)域：
超表面器件 超表面器件在空間上具有復(fù)雜的光場(chǎng)調(diào)控能力，需要在微米尺度下掃描光場(chǎng)。
超透鏡 受限于設(shè)計(jì)規(guī)模和微納加工能力，超透鏡難以實(shí)現(xiàn)較大口徑。面向折射型透鏡的傳統(tǒng)檢測(cè)工具已無(wú)法滿足該類器件的光學(xué)性質(zhì)表征需求，針對(duì)超透鏡特點(diǎn)設(shè)計(jì)的檢測(cè)平臺(tái)應(yīng)運(yùn)而生。
微透鏡 口徑在數(shù)百微米以下的微透鏡及陣列，在集成光學(xué)中已開始發(fā)揮重要作用，受限于透鏡口徑，當(dāng)前缺乏商用化的微透鏡光學(xué)指標(biāo)檢測(cè)平臺(tái)。
AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè) 在以上領(lǐng)域的應(yīng)用得益于如下幾個(gè)特點(diǎn)：1.μm 量級(jí)測(cè)量區(qū)域 AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺(tái)，配合消除像差的準(zhǔn)直及成像光路，實(shí)現(xiàn)了 μm 量級(jí)超表面器件光場(chǎng)檢測(cè)； 2.超過(guò) 7 項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo) 圍繞超表面器件及超透鏡領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)，AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) (PSF)、調(diào)制傳遞函數(shù) (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數(shù)值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過(guò) 7 項(xiàng)衡量器件光學(xué)性質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo)；3.寬 380~1700nm 譜段 AR-Meta 內(nèi)部支持兩個(gè)譜段：可見和近紅外 (含 850nm,1310nm,1550nm)，并通過(guò)高穩(wěn)定切換部件實(shí)現(xiàn)了兩者的切換，與之匹配的是可以通過(guò)外部接口，引入多種波長(zhǎng)的激光光源；4.反射 + 透射 AR-Meta 具有獨(dú)立的反射與透射兩套光路，能夠輕松實(shí)現(xiàn)反射情況下 0~20mm 縱深，透射情況下 0~2mm 縱深的光場(chǎng)掃描； 5.工程化設(shè)計(jì) AR-Meta 在設(shè)計(jì)中充分考慮了光路切換的穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)了控制的自動(dòng)化，保障良好用戶體驗(yàn)；6.除此之外，內(nèi)秉的線偏振與圓偏振器件，多種濾色片的選擇等，使 AR-Meta 的應(yīng)用覆蓋了超表面檢測(cè)所需要的多數(shù)場(chǎng)合。
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