PLD-MPCS2.0 顯微鏡-電子半導(dǎo)體業(yè)不溶微粒檢測(cè)儀

顯微鏡-電子半導(dǎo)體業(yè)不溶微粒檢測(cè)儀-優(yōu)勢(shì)：

測(cè)試軟件具有操作員管理系統(tǒng)、測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)、零件測(cè)試模板、圖像存儲(chǔ)、顆粒追蹤、報(bào)告輸出、清潔度分析等功能；

全面自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)選擇、顆粒尺寸設(shè)定、顆粒計(jì)數(shù)，或按用戶設(shè)定范圍計(jì)數(shù)，自動(dòng)顯示分析結(jié)果，并按照相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)確定產(chǎn)品等級(jí)；

將傳統(tǒng)的顯微測(cè)量方法與現(xiàn)代的圖像處理技術(shù)結(jié)合的產(chǎn)物；

專業(yè)軟件控制分析過(guò)程，手動(dòng)對(duì)焦，手動(dòng)光強(qiáng)（顆粒清潔度測(cè)試必須人為干預(yù)進(jìn)行），自動(dòng)掃描，自動(dòng)攝入，自動(dòng)分析；

數(shù)字?jǐn)z像機(jī)將顯微鏡的圖像拍攝及掃描；全自動(dòng)膜片掃描系統(tǒng)，無(wú)縫拼接，數(shù)字化顯微鏡分析系統(tǒng)；

R232接口數(shù)據(jù)傳輸方式將顆粒圖像傳輸?shù)椒治鱿到y(tǒng)；

顆粒圖像分析軟件及平臺(tái)對(duì)圖像進(jìn)行處理與分析；

顯示器及打印機(jī)輸出分析結(jié)果；

直觀、形象、準(zhǔn)確、測(cè)試范圍寬以及自動(dòng)識(shí)別、自動(dòng)統(tǒng)計(jì)、自動(dòng)標(biāo)定等特點(diǎn)；

避免激光法的產(chǎn)品缺陷，擴(kuò)展檢測(cè)范圍；

現(xiàn)實(shí)NAS、ISO等標(biāo)準(zhǔn)方法的認(rèn)可；

提供“OIL17服務(wù)星”簽約式服務(wù)；

應(yīng)用范圍：

電子半導(dǎo)體行業(yè)：CMP Slurry，石墨、芯片，晶圓加工等微粒檢測(cè)；

特殊化工行業(yè)：墨水&噴墨、納米材料、化工染料、潤(rùn)滑劑、清洗劑、有機(jī)液等微粒檢測(cè)；

石化行業(yè)：航空、航天、電力、石油、化工、交通、港口、冶金、機(jī)械、汽車制造、制冷、電子、工程機(jī)械、液壓系統(tǒng)等領(lǐng)域；

其他行業(yè)：過(guò)濾產(chǎn)品，清潔度方面，食品飲料，化妝品等微粒檢測(cè)。

顯微鏡-電子半導(dǎo)體業(yè)不溶微粒檢測(cè)儀-執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：

0.1~3000μm的超寬范圍、超高分辨率滿足510多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)要求。

可根據(jù)客戶要求，植入相應(yīng)“光阻法顆粒度”測(cè)試和評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)。

技術(shù)參數(shù)：

訂制要求：各類液體檢測(cè)要求；

測(cè)試范圍: 1μm-500μm

放大倍數(shù)：40X～l000X倍

大分辨：0.1μm

顯微鏡誤差：0.02（不包含樣品制備因素造成的誤差）

重復(fù)性誤差：< 5%（不包含樣品制備因素造成的誤差）

數(shù)字?jǐn)z像頭(CCD)：300萬(wàn)像素

標(biāo)尺刻度：0.1μm

分析項(xiàng)目：粒度分布、長(zhǎng)徑比分布、圓形度分布等

自動(dòng)分割速度：< 1秒

分割成功率：> 93%

軟件運(yùn)行環(huán)境：Windows 2000、Windows XP

接口方式：RS232或USB方式

供貨期：30個(gè)工作日

精 確 度：<±3% 典型值；

重合精度：10000粒/mL（5%重合誤差）；

鑒定機(jī)構(gòu)：國(guó)家西北計(jì)量測(cè)試中心（民品）

售后服務(wù)：普洛帝中國(guó)服務(wù)中心/普研檢測(cè)。