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XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀

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微區(qū)熒光光譜儀熒光光譜儀

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北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司成立于2003年,是一家材料分析數(shù)字化解決方案服務(wù)商。旗下?lián)碛锌茖W(xué)儀器、智慧實(shí)驗(yàn)室、第三方檢測(cè)、技術(shù)服務(wù)等業(yè)務(wù)板塊。歐波同堅(jiān)持“讓實(shí)驗(yàn)更簡(jiǎn)單”的發(fā)展主線,充分掌握計(jì)算機(jī)視覺和圖像識(shí)別技術(shù),實(shí)現(xiàn)AI技術(shù)和工業(yè)分析技術(shù)的跨界融合,幫助中國(guó)企業(yè)在競(jìng)爭(zhēng)中取得成功。為世界材料分析貢獻(xiàn)中國(guó)力量!


北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司(OPTON)-主營(yíng)進(jìn)口掃描電子顯微鏡、雙束聚焦離子束顯微鏡、賽默飛掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、聚焦離子束電鏡、賽默飛雙束電鏡、FEI掃描電鏡、FIB掃描電鏡、FIB雙束電鏡、TEM透射電鏡、球差電鏡、氬離子拋光測(cè)試及制樣設(shè)備中國(guó)區(qū)授權(quán)代理商








電鏡,SEM,掃描電鏡,F(xiàn)IB雙束電鏡,環(huán)境掃描電鏡,TEM透射電鏡,掃描電鏡附件,離子濺射儀

價(jià)格區(qū)間 面議 行業(yè)專用類型 通用
儀器種類 臺(tái)式/落地式 應(yīng)用領(lǐng)域 石油,地礦

XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀

   XTrace是一款可搭配在任意一臺(tái)具有傾斜法蘭槽 SEM上的微焦點(diǎn)X射線源。利用該設(shè)備可使SEM具備完整意義上的微區(qū) XRF光譜分析能力。對(duì)于中等元素至重元素范圍內(nèi)的元素,其檢測(cè)限提高了 20-50倍。此外,因?yàn)椋厣渚€的信號(hào)激發(fā)深度深于電子束,利用該設(shè)備還可以檢測(cè)更深層次樣品的信息。

 

XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了X射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù),利用該技術(shù),即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。X射線毛細(xì)導(dǎo)管將X射線源的大部分射線收集,并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)X射線點(diǎn)。
      利用QUANTAX EDS*系統(tǒng)的 XFlash®系列電制冷能譜探頭即可對(duì)所產(chǎn)生的X射線熒光光譜進(jìn)行采集。 XFlash®電制冷能譜探頭使整個(gè)系統(tǒng)具備了非常高的能量分辨率,同時(shí)兼具了強(qiáng)大的信號(hào)采集能力。比如,利用有效面積 30 mm²的探頭在分析金屬元素時(shí)的輸入計(jì)數(shù)率可達(dá) 40 kcps。
      X射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù)使熒光強(qiáng)度得到極大的增強(qiáng),同時(shí),熒光光譜的背底較低,這些都提高了系統(tǒng)對(duì)痕量元素的敏感度。相較于電子束激發(fā)的信號(hào),其檢測(cè)限可提高 20-50倍。而且,因?yàn)椋厣渚€源激發(fā)信號(hào)對(duì)于高原子序數(shù)元素更有效,所以高原子序數(shù)元素檢測(cè)限可提高至 10ppm。
       QUANTAX能譜儀系統(tǒng)和微區(qū)熒光光譜儀系統(tǒng)可在同一用戶界面內(nèi)結(jié)合使用,從而互相補(bǔ)強(qiáng),實(shí)現(xiàn)定量分析結(jié)果的優(yōu)化。

用戶友好型設(shè)計(jì)
聚焦于分析任務(wù),而非繁瑣的系統(tǒng)設(shè)置
       利用ESPRIT HyperMap進(jìn)行面分布分析的同時(shí)采集了所有的數(shù)據(jù)并存儲(chǔ),便于后續(xù)的離線分析。
       樣品可利用 EDS系統(tǒng)和 micro-XRF系統(tǒng)并行進(jìn)行分析,而無需任何的樣品移動(dòng)。
       兩種分析方法無縫整合在同一分析軟件 ESPRIT中,切換分析方法只需輕點(diǎn)鼠標(biāo)。
       XTrace不會(huì)干擾任何 SEM及EDS操作。
僅需點(diǎn)滴投入,即可獲得獨(dú)立微區(qū)熒光光譜儀的強(qiáng)大功能
       分析結(jié)果可與獨(dú)立系統(tǒng)媲美。
       樣品傾斜后可對(duì)更大區(qū)域進(jìn)行面分布
       提供三個(gè)初級(jí)濾片以壓制衍射峰
       直接利用掃描電鏡樣品臺(tái),無需其他的樣品臺(tái)裝置。
       通過掃描電鏡樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)輕松避免譜圖中衍射峰的出現(xiàn)。
       可傾斜樣品以獲得小束斑直徑。



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