SUNDI-575 全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)槽

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)槽

全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)槽

　　無錫冠亞全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置可以一臺加熱系統(tǒng)主機+載冷劑控制換熱單元可以控制多達2～20臺不同大小反應釜，而且每個反應釜可以控制在不同的溫度，當然，不同的全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置型號不同，其全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置價格也是不一樣的。

　　全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置具有結構合理、操作簡便、穩(wěn)定性能好等特點，采用全密閉管道式設計，采用板式熱交換器，降低導熱液需求量的同時，提高系統(tǒng)的熱量利用率，達到快速升降溫度，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發(fā)的風險，所以被廣泛應用于大專院校、、生化、醫(yī)療、化工、科研等領域。

　　通入隔離加熱制冷循環(huán)器反應釜的導熱個質要求保持溫度恒定，通過調節(jié)流入反應釜夾套的導熱介質的流量，來控制反應釜內物料的溫度符合工藝要求?，F(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展對產品質量提出了更高的要求。

　　隔離加熱制冷循環(huán)器只用同一種介質就可以快速響應控制溫度，可以在-120℃~300℃范圍內實現(xiàn)流體系統(tǒng)控溫。單一壓縮機制冷技術可以達到-150℃的較低溫度，并且體積更小，更容易抬放。

　　全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置將其它需要冷卻的儀器或設備產生的熱量傳遞出來，通過制冷系統(tǒng)將熱量散發(fā)到設備外部，從而保證設備在正常的溫度范圍內工作。全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置裝置與儀器設備之間依靠裝置內水泵壓力形成封閉介質循環(huán)，由溫度傳感器檢測介質溫度，實施對制冷機的控制。

　　無錫冠亞全封閉實驗室高低溫循環(huán)裝置廣泛應用于制藥化工行業(yè)中多種實驗設備中，以導熱油為傳熱介質，以制冷劑為冷卻液實現(xiàn)制冷加熱的控溫過程。