DaLI 無掩膜納米光刻機

DaLI無掩膜納米光刻機

* 用途：基于無掩模光刻技術(shù)的各種微納加工

* 主要特點：采用AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度優(yōu)于1nm，高精度套刻對準，結(jié)構(gòu)邊緣超平滑，可輕松構(gòu)建1微米以下線寬結(jié)構(gòu)。

* 簡介：*的AOD激光操控技術(shù)，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優(yōu)于1nm），有效壽命長，以及*的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應(yīng)用于MEMS、材料科學、微流控、微光學器件及其它微納加工領(lǐng)域。

應(yīng)用領(lǐng)域：以優(yōu)于1nm的光斑定位精度，快速完成高精細結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

產(chǎn)品描述：DaLI無掩膜納米光刻機是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設(shè)備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米級精度要求的儀器設(shè)備中經(jīng)過十幾年的應(yīng)用檢驗。超高精度，和超高穩(wěn)定性是DaLI無掩膜納米光刻機實現(xiàn)高性能的基礎(chǔ)。

* 基本特點：

超穩(wěn)定，長時效375nm激光

相對于其它各種光源，在精密光學儀器應(yīng)用中，激光光源在光束質(zhì)量，穩(wěn)定性，耐用性等方面具有的*性。DaLI無掩膜納米光刻機采用好的激光光源，以保證良好的性能和用戶體驗。

廣泛的適應(yīng)性

DaLI無掩膜納米光刻機廣泛適用于各種I-line光刻膠，AZ系列正膠，SU-8系列負膠等，在各種厚膠與薄膠應(yīng)用中有著出色的表現(xiàn)。

優(yōu)異的非平表面直寫功能

不管是平面還是非平表面，刻寫無障礙，刻寫結(jié)果依然平滑

整機恒溫系統(tǒng)，保證良好的性能

DaLI無掩膜納米光刻機采用了超越光刻技術(shù)極限的亞納米級AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度可達0.1nm。為充分發(fā)揮AOD技術(shù)的優(yōu)勢，我們建立了整機恒溫系統(tǒng)，控溫精度可達±0.1℃，將設(shè)備所有部件和溫差形變和熱漂移降到低，從而實現(xiàn)真正的高精度光刻。

準確的圖形結(jié)構(gòu)

大量設(shè)計圖與實刻圖可聯(lián)系A(chǔ)resis China銷售人員參看。見文末。

工作范圍與曝光拼接

兩種光斑尺寸可供選擇，兩種直寫光斑也可自動切換：

大光斑直寫工具單個工作區(qū)域 為900μm X 900μm；

小光斑直寫工具單個工作區(qū)域為300μm X 300μm

A. 小光斑直寫工具用于對精度要求較高的圖形構(gòu)建,光斑直徑1μm?

B. 光斑直寫工具適用于大面積高速直寫,光斑直徑3μm?

?DaLI的軟拼接可以將曝光掃描線延伸到臨近區(qū)域，并梯度降低激光強度（紅線）。在臨近區(qū)域，激光強度梯度增加（藍線），從而獲得干凈均一的拼接圖案?。

用戶友好的操作軟件?

DaLI控制軟件通過USB接口與設(shè)備快速通訊，可以對設(shè)計圖中的區(qū)塊和每一個微結(jié)構(gòu)的曝光參數(shù)進行設(shè)置，對圖形設(shè)計的預(yù)覽和快速柵格化，對樣品的觀察、準直、調(diào)平等。該軟件具備圖形設(shè)計和展示功能，可選用多種繪圖工具，支持對 dxf, gerber, bm 等格式文件的導入與修改。

?

*的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm?

A. 可以獲得任意平滑、銳利的結(jié)構(gòu)邊緣

?B. 可高分辨調(diào)整特征結(jié)構(gòu)間的距離?

C. 可以實現(xiàn)亞微米級精細結(jié)構(gòu)的構(gòu)建?

多重校準/反饋機制

?超高精度的*AOD激光操控技術(shù)，使得通過各種校準與反饋機制來提升整機系統(tǒng)的精度和穩(wěn)定性變得簡單可行。DaLI具有多種校準和反聵機制，無需用戶干預(yù)即可完成，為其優(yōu)異的性能提供更多保障。

基本參數(shù)：?

?

更多內(nèi)容請聯(lián)系該產(chǎn)品全國總代理：AresisChina| 艾銳斯科技(北京)有限公司
或者聯(lián)系該產(chǎn)品全國總代理：Aresis China 

?