掃描電子顯微分析裝置EmCrafts電鏡附件

 *材料在微納米尺度物理缺陷和化學成分差異將對宏觀性能產(chǎn)生重大影響，材料科技工作者需要從微納米尺度掌握材料物理缺陷形成、成分差異演變、晶體結構組成的一般規(guī)律。針對這樣的課題，使用掃描電鏡（SEM）平臺配套EDS/WDS/EBSD觀察分析是科學的解決方案。

掃描電子顯微分析裝置EmCrafts電鏡附件常用的分析附件，使用Si半導體晶體對元素特征X射線展譜，自1970年代商品化以來，技術性能不斷進步，當前技術，可在分秒間對微納米尺度成分差異做出準確判斷。分析報告包括材料微觀圖像和不同微觀區(qū)域化學成分，全元素構成，元素百分比以及測量方差。
    WDS作為早配合電子束探測材料微區(qū)元素組成的X射線分光儀器，特征X射線能量分辨率5-10電子伏，對微量成分定性定量精度比EDS提高一個數(shù)量級，目前在半導體，電子材料，地質礦物和特殊合金研究中廣泛使用，但波譜分析逐個元素進行定量，比較耗時，對電子束束流穩(wěn)定性提出更高要求。

    EBSD，采用高能背散射電子，對樣品剖面做晶體衍射，從而獲得微區(qū)晶體結構，取向，分布定性定量結果。在金屬、陶瓷和地質學分析顯微結構及織構中使用越來越廣泛。

掃描電子顯微分析裝置EmCrafts電鏡附件，均采用專業(yè)級電子顯微成像技術，專業(yè)設計電子顯微分析附件探測器接口，優(yōu)化探測器幾何探測效率，是優(yōu)良的掃描電子顯微分析平臺。

Cube-200桌面臺式電鏡，可拓展簡單易用的臺式電鏡能譜儀（EDS） ；

Genesis-I型分析電鏡，可拓展專業(yè)級X-ray能譜儀，定量更精；    

Genesis-II型分析電鏡，可拓展專業(yè)EDS、WDS、EBSD裝置、CL等多種電子顯微分析附件。

Veritas-300型分析電鏡，具有大型樣品觀察分析倉，可裝備更多電子顯微分析附件和微操作樣品臺。