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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>配件耗材>質(zhì)譜儀配件/附件>離子源> 上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列

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上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海伯東是德國 Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 現(xiàn)貨

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

KRi 考夫曼離子源 KDC 系列

美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實(shí)驗(yàn)室小型研發(fā), 鍍膜機(jī), load lock, 磁控濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機(jī)和線性鍍膜.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性:
通過加熱燈絲產(chǎn)生電子
低電流高能量寬束型離子源

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用:
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
濺鍍&蒸鍍 PC
表面改性, 激活 SM
沉積 DD
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
 

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù):

型號

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

Discharge 陽極

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

離子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射


流量

1-5 sccm

2-10 sccm

2-15 sccm

2-20 sccm

2-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

11.5 cm

17.1 cm

20.1 cm

23.5 cm

25.2 cm

直徑

4 cm

9 cm

14 cm

19.4 cm

23.2 cm

中和器

燈絲


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生




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