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日立分析儀器(上海)有限公司

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EQ2000 光纖光譜儀廠家

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 上海聞奕光電科技有限公司
  • 品牌 聞奕光電
  • 型號 EQ2000
  • 產地 上海市閔行區(qū)江凱路199號
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/11/12 13:21:43
  • 訪問次數 1269

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上海聞奕光電科技有限公司成立于2011年6月,是一家快速成長的*,是國內較大的微型光譜儀全線產品制造商,擁有微型譜儀、石英光纖、光學光源和光譜測量配套應用產品線系列,更形成了集設計、研發(fā)、制造和銷售一體的價值服務鏈,服務于半導體照明(LED)、實驗室分析、光伏產業(yè)、環(huán)境保護和食品安全等多個領域,致力于給產業(yè)用戶提供從研發(fā)到生產各個環(huán)節(jié)所需要的快速、準確而高效的分析檢測儀器,以創(chuàng)新技術*品質,以優(yōu)質服務贏得市場口碑。

從2011年成立至今,上海聞奕光電植根于科研領域,以華東區(qū)域為核心市場,*包括*、清華大學、復旦大學、上海交通大學、南京大學、浙江大學等眾多*高校。同時,上海聞奕光電以高品質的光譜儀檢測模塊產品為基礎,開展產業(yè)檢測系統(tǒng)級設備研發(fā),精準的服務主要集中于長三角和珠三角等地區(qū)各行業(yè)領域的檢測需求。2014年,上海聞奕光電進軍民生檢測市場,進一步向“光譜改變世界”的企業(yè)愿景邁進。

上海聞奕光電作為民族企業(yè)的代表,將在中國產業(yè)結構升級和科技創(chuàng)新事業(yè)上奮力拼搏、不斷進取。

 

光纖光譜儀,石英光纖,積分球,鹵素燈光源,氘燈,汞燈,氙燈,準直鏡

按探測器 CCD 動態(tài)范圍 3000:01
分辨率 0.2-3.0nm 光譜范圍 近紅外,200~1100nm
光譜范圍 近紅外,200~1100nm 價格區(qū)間 面議
靈敏度 130 photons/count at 400 nm; 60 photons/ 信噪比 400:01 (全量程范圍)
應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產業(yè),農業(yè) 雜散光 <0.01% at 600 nm; <0.03% at 435 nm

    EQ2000光纖光譜儀廠家,上海聞奕光電科技有限公司開發(fā)的EQ2000光纖光譜儀,是一種高速教學實驗光譜儀,可提供zui高 0.1nm 的光學分辨率。同時該光譜儀100nm的焦距和0.11的數值孔徑組合可以使其在不增大自身體積的情況下達到分辨率與靈敏度的*平衡;除此之外,該光譜儀還應用到以下*技術,因此與市場上同類產品相比具有突出優(yōu)勢:

·1、全譜段技術,該光譜儀采用擁有的EX雙閃耀光柵技術,使用線性漸變消高階濾光片和可變閃耀光柵,雙閃耀光柵在寬譜段范圍內擁有更加均勻的響應,解決了寬譜段效率均衡與高階干擾的問題,zui寬譜段覆蓋范圍達200-1100 nm;

· 2、高靈敏技術,優(yōu)化數值孔徑和聚焦設計,采用聚光鏡等光學元件,有效提高靈敏度;

· 3、高速光譜傳輸技術,使用高速CCD和高速處理芯片和算法,實現(xiàn)了在 1ms 內設定新的積分時間,能有效提高光譜儀的反應速度,減少光譜儀控制的時間;

· 4、標志位技術,隨時可查詢光譜儀采譜完成狀態(tài),可隨時打斷并重新采集,不需長時間等待;

· 5、底層調用技術,支持系統(tǒng)集成開發(fā),方便用戶更快速地開發(fā)光譜儀應用程序;

· 6、低雜散技術,采用對稱交叉的C-T光路設計,內部噴涂航天級高吸光材料,有效抑制雜散光形成。

綜上所述,EQ2000光纖光譜儀具有靈活,高速,性價比優(yōu)良等特點,適用于開發(fā)可見,近紅外高分辨率光譜實驗教學儀器設備,如:·氫燈、太陽光譜等的檢測;·LED光譜檢測;·薄膜,濾光片光譜分析等。

 該光譜儀還可配備經特殊紫外敏化處理的深紫外CCD,以將光譜探測范圍拓展至深紫外波段,具有更為廣闊的應用空間。

 EQ2000高分辨光纖光譜儀,在保證體積微小,高速測量的前提下,具備*的測量精度和靈敏度;搭配本公司提供的低成本光纖,便可根據用戶需求搭建個性化的光譜測量設備,其優(yōu)良性能使用戶開發(fā)的設備產品處于技術地位,具有更強的可靠性和議價能力。


圖片11-1.jpg

 

EQ2000光纖光譜儀廠家產品參數:

探測器(典型值):    

項目
類型: SONY ILX554B 線陣CCD
探測范圍: 200 – 1100 nm
像素: 2048像素
像素尺寸: 14 x 56
像素阱深: ~100,000 electrons
靈敏度: 130 photons/count at 400 nm; 60 photons/count at 600 nm

光學平臺:

 

項目
設計: f/4, 對稱交叉光路
焦距: 100 mm
入射狹縫: 5, 10, 25, 50, 100和200 nm,或者無狹縫
光柵選擇: 從紫外至近紅外光柵
EX光柵: 提供200-1100 nm寬譜段范圍
探測器聚光鏡: 可選購
消二級濾光片: OFLV-200-1100
其他濾光片: 長波通濾光片
光纖接口: SMA905

光譜儀:

項目
波長范圍: 依賴光柵選擇
光學分辨率: ~0.035-8.4 nm FWHM
信噪比: 300:1
A/D分辨率: 16位
暗背景: 12 RMS counts
靈敏度: 2 x 10^8 (系統(tǒng)); 單次采集1300:1
積分時間: 1毫秒至2秒
雜散光: < 0.05% at 600 nm; < 0.10% at 435 nm
矯正線性度: >99.8%

 

波段選擇:

注:光譜儀的狹縫寬度與分辨率成正比,分辨率與靈敏度成反比。

應用:

EQ2000由于其優(yōu)良性能,具有*的市場競爭力和廣闊的應用空間,下面是其在透射式光譜檢測中的應用實例:

 

 

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