iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀

iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀

　　我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長(zhǎng)色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計(jì)（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）、液相色譜儀（LC）、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）、高頻紅外碳硫分析儀（CS）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。

　　應(yīng)用領(lǐng)域

　　分析各種電鍍鍍層厚度

　　技術(shù)指標(biāo)

　　多鍍層分析，1～5層；

　　測(cè)試精度：0.001μm；

　　元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)；

　　測(cè)量時(shí)間：10~30秒；

　　SDD探測(cè)器，能量分辨率為125±5eV；

　　探測(cè)器Be窗0.5mil（12.7μm）；

　　微焦X射線管50kV/1mA，鉬，銠靶（高配微焦鉬靶）；

　　6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換；

　　高清CCD攝像頭（200萬(wàn)像素），準(zhǔn)確監(jiān)控位置；

　　多變量非線性去卷積曲線擬合；

　　高性能FP/MLSQ分析；

　　軟件支持無(wú)標(biāo)樣分析；

　　寬大分析平臺(tái)和樣品腔；

　　集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面；

　　采用多種光譜擬合分析處理技術(shù)；

　　鍍層測(cè)厚分析可達(dá)到0.001μm。

　　單層厚度范圍：

　　金鍍層0－8um,

　　鉻鍍層0-15um,

　　其余一般為0-30um以內(nèi)，

　　可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

　　2.3、多層厚度范圍

　　Au/Ni/Cu:Au分析厚度:0-8umNi分析厚度:0-30um

　　Sn/Ni/Cu:Sn分析厚度:0-30umNi分析厚度:0-30um

　　Cr/Ni/Fe:Cr分析厚度0-15umNi分析厚度:0-30um

　　2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

　　2.5、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

　　2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。

　　單層分析精度，以Ni舉例：（相對(duì)差值）

　　Ni層厚度(um)

　　保證精度

　　<1.0um

　　<5%

　　1.0-5.0um

　　<3%

　　5.0-10um

　　<3%

　　10-20um

　　<3%

　　>20.0um

　　<3%

　　分析報(bào)告結(jié)果

　　直接打印分析報(bào)告；

　　報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF，EXCEL格式。

　　iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀