RTP500V-mini/RTP600V 退火爐

目前在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域中，科學(xué)家試圖利用極微量的氧氣對薄膜表面進(jìn)行去毛刺工藝，如果氧氣量過大，將可能把整個薄膜“吃掉”，氧氣量小但不穩(wěn)定，則影響到成品的品質(zhì)和重復(fù)性。這對RTP在微量氣體的混氣控制上提出了極大的挑戰(zhàn)。
　　實現(xiàn)常壓下千分之一的氣體分壓。即反應(yīng)氣體和保護(hù)氣氛的常壓配比為1比1000。一般實現(xiàn)氣體配比的方法是使用質(zhì)量流量控制器（MFC），對兩種氣體的流量進(jìn)行精確控制，例如配比為3：2時，兩個質(zhì)量流量計的流量分別調(diào)整為600sccm和400sccm，這時氣體配比就可以實現(xiàn)3：2的配比。
 　但是，當(dāng)兩種氣體的配比非常懸殊的時候，就產(chǎn)生兩個問題，首先是大量程MFC的誤差絕對值超過了小量程氣體MFC本身的量，使得配比的重復(fù)性和精確度變差。即使使用進(jìn)口的MFC也不能幸免。其次，由于一方氣體流量過小，會使流量大的一方的氣體阻止或倒灌到流量小的氣路中，從而無法保證反應(yīng)氣體進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)。
北京東之星應(yīng)用物理研究所首先采用精確的壓力控制使壓力與流量有效的配合，同時委托MFC廠家以東之星*的送氣控制方式定制了MFC。從而有效的防止了大配比氣體（一般是氮?dú)猓┑牡构嗪妥枞２艑崿F(xiàn)了高精確度的千分之一氣體配比。