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國產(chǎn)電子束光刻

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 8:25:59
  • 訪問次數(shù) 1075

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

國產(chǎn)電子束光刻利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的光刻技術(shù)。電子抗蝕劑是一種對電子敏感的高分子聚合物。經(jīng)過電子束掃描過的電子抗蝕劑發(fā)生分子鏈重組,使曝光圖形部分的抗蝕劑發(fā)生化學(xué)性質(zhì)改變,經(jīng)過顯影和定影,獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形?,F(xiàn)代的電子束光刻設(shè)備已經(jīng)能夠制作小于10納米的精細(xì)線條結(jié)構(gòu),也可制作光學(xué)掩模版。

國產(chǎn)電子束光刻主要功能:曝光速度快精度高,可采用大寫場大束流進(jìn)行曝光,適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用;自動(dòng)化程度高,除了放樣取樣外,整個(gè)曝光過程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù),其他過程均可自動(dòng)完成。

盡管電子束光刻具有高分辨率,但用戶通常不考慮在電子束光刻過程中產(chǎn)生缺陷。缺陷可以分為兩類:與數(shù)據(jù)相關(guān)的缺陷和物理缺陷。

與數(shù)據(jù)有關(guān)的缺陷可以進(jìn)一步分為兩個(gè)子類別。當(dāng)電子束原本應(yīng)該正確偏轉(zhuǎn)時(shí),會(huì)發(fā)生消隱或偏轉(zhuǎn)錯(cuò)誤;而當(dāng)將錯(cuò)誤形狀投射到樣品上時(shí),在可變形狀的電子束系統(tǒng)中會(huì)發(fā)生成形錯(cuò)誤。這些錯(cuò)誤可能源自電子光學(xué)控制硬件,也可能源自錄音帶??梢灶A(yù)期,較大的數(shù)據(jù)文件更容易受到與數(shù)據(jù)相關(guān)的缺陷的影響。

物理缺陷變化更大,可能包括樣品帶電(正電荷或負(fù)電荷),反向散射計(jì)算誤差、劑量誤差、霧化(反向散射電子的遠(yuǎn)距離反射)、除氣、污染、電子束漂移和粒子。由于電子束光刻的寫入時(shí)間很容易超過一天,因此“隨機(jī)發(fā)生”的缺陷更有可能發(fā)生。同樣,較大的數(shù)據(jù)文件可能會(huì)帶來更多的缺陷機(jī)會(huì)。




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