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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>離子濺射儀>QBT-P 雙腔室超高真空雙磁控測射系統(tǒng)

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QBT-P 雙腔室超高真空雙磁控測射系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 廈門韞茂科技有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號QBT-P
  • 所在地廈門市
  • 廠商性質生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/8/22 13:05:13
  • 訪問次數(shù) 702

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廈門韞茂科技有限公司成立于2018年,由硅谷海歸團隊創(chuàng)立,核心成員擁有超20年薄膜沉積工藝及設備開發(fā)產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗,2021年入選高新技術企業(yè),2022年入選廈門專精特新技術企業(yè),是一家以納米級薄膜沉積工藝技術為核心的多領域全棧式薄膜沉積方案供應商,為客戶提供全面的技術解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備,針對先進制造國產(chǎn)化的痛點,開發(fā)自主設備。

 

 

ALD,PVD,CVD,原子層沉積設備 原子層沉積系統(tǒng)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應用領域 綜合

一、雙腔室超高真空雙磁控測射系統(tǒng)核心參數(shù):  

價格區(qū)間:150萬-200萬  

儀器種類:磁控濺射鍍膜機  

產(chǎn)地類別:國產(chǎn)  

應用領域:微電子學  

基片尺寸:4寸(可定制)  

靶材:鉭  

基片溫度范圍:RT-900oC  

成膜厚度均勻性:基板刻蝕均一性<3%  

極限真空:極限真空UltimatePressure<3E-9Torr  


二、磁控濺射技術原理:  

在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內被加速為高能電子后,并不直接飛向陽極,而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉移能量,使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收,避免高能電子對極板的強烈轟擊,消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點。由于外加磁場的存在,電子的復雜運動增加了電離率,實現(xiàn)了高速濺射。  


三、雙腔室超高真空雙磁控測射系統(tǒng)技術特點:  

成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實現(xiàn)大面積鍍膜  


四、售后服務:  

保修期:1年  

是否可延長保修期:否  

現(xiàn)場技術咨詢:有  

免費培訓:1.設備出廠前,提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調試  

免費儀器保養(yǎng):有需要可安排  

保內維修承諾:保修期內(除天災和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔  

報修承諾:質保期內出現(xiàn)故障時我司將及時響應,并在8小時內派技術人員到現(xiàn)場解決故障;  


五、技術參數(shù):  

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六、工藝展示:

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