QBT-I 雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)

一、雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)核心參數(shù)：  

價格區(qū)間：150萬-200萬  

儀器種類：熱蒸發(fā)鍍膜機  

產(chǎn)地類別：國產(chǎn)  

應用領域：微電子學  

基片尺寸：6寸（可定制）  

靶材：銦單質  

基片溫度范圍：-10-40℃  

成膜厚度均勻性：<3%  

極限真空：極限真空UltimatePressure<3E-8Torr  

二、高速蒸鍍系統(tǒng)產(chǎn)品詳情：  

上下雙腔,集表面處理與蒸發(fā)鍍膜為一體,高效可靠的Indium蒸鍍助手。  

三、廈門韞茂科技有限公司為您提供QBT-I雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)的參數(shù)、價格、型號、原理等信息，QBT-I雙產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂，型號為QBT-I，價格為150萬-200萬RMB，更多相關信息可咨詢，公司客服電話7*24小時為您服務。  

四、廈門韞茂科技有限公司是一家以納米級表面成膜和刻蝕技術為核心的高新技術企業(yè)，面向量子科學，*材料，半導體，超導等領域為客戶提供方位的技術解決方案，幫助客戶更高效的推動技術的探索與發(fā)展，公司形成以UHV超高真空鍍膜裝備，ALD原子層鍍膜系統(tǒng)、半導體專用鍍膜設備為核心的產(chǎn)品矩陣，助力中國的高科技技術和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。  

五、技術參數(shù)：

六、測試結果：