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納米激光直寫系統(tǒng)

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公司簡(jiǎn)介:

   蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項(xiàng)目"的支持下,于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成,公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。公司曾先后獲得國(guó)家科技部(國(guó)家重大大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng))和姑蘇、江蘇省雙創(chuàng)人才、以及蘇州x-nano大科學(xué)裝置等項(xiàng)目支持,并于20126月 完成首輪風(fēng)險(xiǎn)融資,成功研發(fā)出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng),2015年被認(rèn)定為高新技術(shù)企業(yè)。

公司近年來(lái),不斷加大研發(fā)力度,已經(jīng)定型了LDW-P LDW-L兩大系列新型激光直寫設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了激光直寫設(shè)備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料,極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。





無(wú)掩模納米光刻系統(tǒng),激光直寫設(shè)備

應(yīng)用領(lǐng)域 化工 激光波長(zhǎng) 405nm
特征尺寸 100nm 激光功率 120mW至300mW(可選)
刻寫范圍 50mm×50mm至100mm×100mm(可選)

蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成,公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。

納米激光直寫系統(tǒng)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料,極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。

新一代激光直寫光刻設(shè)備特點(diǎn)

具有核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)產(chǎn)激光直寫設(shè)備

具有超越衍射極限的加工能力

納米激光直寫系統(tǒng)可適用于多種受體材料

本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。

部分加工樣品如下圖

image.png

 

 



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