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DR-M4 ATAGO愛(ài)拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 廣州市愛(ài)宕科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 ATAGO/愛(ài)拓
  • 型號(hào) DR-M4
  • 產(chǎn)地 日本
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間 2024/9/27 8:21:25
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1105

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ATAGO（愛(ài)拓）源自日本，成立于1940年，總部設(shè)在日本東京，80年來(lái)一直致力于研究與開(kāi)發(fā)多樣化、應(yīng)用廣泛的光電檢測(cè)儀器。其主要產(chǎn)品為折光儀、旋光儀及基于折射原理測(cè)定各種物質(zhì)濃度的衍生產(chǎn)品濃度計(jì)，多年來(lái)已為各行各業(yè)提供了多樣化的產(chǎn)品濃度檢測(cè)方案。


主要銷(xiāo)售：折射儀、折光儀、旋光儀、糖度計(jì)、濃度計(jì)、鹽度計(jì)、粘度計(jì)、食用油品檢測(cè)儀、二氧化碳糖度檢測(cè)儀等多種物質(zhì)的濃度檢測(cè)儀。


ATAGO（愛(ài)拓）產(chǎn)品的應(yīng)用涵蓋從食品飲料，果蔬種植，制糖行業(yè)，日用化工，生物制藥，金屬加工，工業(yè)制造到石油化工等多種領(lǐng)域。品質(zhì)可靠，耐用性好，獲得來(lái)自150多個(gè)國(guó)家和地區(qū)客戶(hù)的信任與肯定！








自動(dòng)旋光儀,阿貝折光儀,全自動(dòng)折光儀,手持式糖度計(jì),手持式折射計(jì),折射計(jì),糖度計(jì),旋光儀,鹽度計(jì),在線(xiàn)折光儀

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類(lèi) 臺(tái)式
價(jià)格區(qū)間 面議 數(shù)顯功能 有
溫控功能 無(wú) 應(yīng)用領(lǐng)域 食品,化工,綜合

光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。


在平板顯示行業(yè)：主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面，經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上，形成與掩膜版對(duì)應(yīng)的幾何圖形。


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在PCB行業(yè)：主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上，進(jìn)行曝光顯影；濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上，待其干燥后進(jìn)行曝光顯影。干膜與濕膜各有優(yōu)勢(shì)，總體來(lái)說(shuō)濕膜光刻膠分辨率高于干膜，價(jià)格更低廉，正在對(duì)干膜光刻膠的部分市場(chǎng)進(jìn)行替代。

在半導(dǎo)體集成電路制造行業(yè)：主要使用g線(xiàn)光刻膠、i線(xiàn)光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。在大規(guī)模集成電路的制造過(guò)程中，一般要對(duì)硅片進(jìn)行超過(guò)十次光刻。在每次的光刻和刻蝕工藝中，光刻膠都要通過(guò)預(yù)烘、涂膠、前烘、對(duì)準(zhǔn)、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環(huán)節(jié)，將光罩（掩膜版）上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。


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光刻膠是集成電路制造的重要材料：光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的35%，并且耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的40%~50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

按顯示效果分類(lèi)，光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。負(fù)性光刻膠顯影時(shí)形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致，區(qū)別在于主要原材料不同。
按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類(lèi)；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型，光交聯(lián)型和化學(xué)放大型。光聚合型光刻膠采用烯類(lèi)單體，在光作用下生成自由基，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚合物。

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光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類(lèi)化合物(DQN)材料作為感光劑，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng)，可以制成正性光刻膠；

在半導(dǎo)體集成電路光刻技術(shù)開(kāi)始使用深紫外（DUV）光源以后，化學(xué)放大（CAR）技術(shù)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流。在化學(xué)放大光刻膠技術(shù)中，樹(shù)脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯?；瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑（PAG）作為光引發(fā)劑。


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按照曝光波長(zhǎng)分類(lèi)，光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線(xiàn)光刻膠等。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同。通常來(lái)說(shuō)，在使用工藝方法一致的情況下，波長(zhǎng)越短，加工分辨率越佳。


可測(cè)量不同波長(zhǎng)下的折射率與阿貝數(shù)值，數(shù)字顯示，準(zhǔn)確清晰，活動(dòng)光源，可定做濾光片，對(duì)薄膜的XYZ軸有特殊方法檢測(cè)！


ATAGO愛(ài)拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀 DR-M2/M4（最大1,100nm），可在波長(zhǎng)450至1,100nm范圍內(nèi)，使用不同的波長(zhǎng)測(cè)量折射率（nD）和阿貝數(shù)值。測(cè)量結(jié)果通過(guò)調(diào)整分界線(xiàn)至十字交叉點(diǎn)確定，測(cè)量結(jié)果在LCD顯示屏以數(shù)字形式顯示，與傳統(tǒng)型阿貝折射儀相比，讀數(shù)更快速更清晰。尤其適合高精度測(cè)量眼鏡片等聚酯材質(zhì)的折射率。


ATAGO愛(ài)拓半導(dǎo)體光刻膠折射率阿貝折光儀，廣泛用于測(cè)量：濃縮果汁、香精香料、工業(yè)溶液、化工材料、光學(xué)玻璃、塑料薄膜、各種新型材料及某些固體物質(zhì)的折射率（nD）及Brix值。





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