批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備
- 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/7/10 13:47:00
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。
此系統(tǒng)為專(zhuān)對(duì)派瑞林(Parylene)所設(shè)計(jì),其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性,並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應(yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù):
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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