MODEL 1401 NONSEQUITUR 離子源離子槍

NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源

Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學(xué)實(shí)驗(yàn)，例如使用Auger 和ESCA進(jìn)行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

在工作距離為25毫米，束流大小為20安時(shí),光斑為直徑0.4毫米.相比較于其他的離子槍而言,離子槍型號(hào)1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當(dāng)束流為1 A時(shí),光斑最小可以選擇到50米電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇,并同時(shí)保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調(diào)節(jié),并不受電子束能量的影響,無(wú)需外部設(shè)備,可以直接從前面板進(jìn)行調(diào)節(jié)。

通過(guò)電子沖擊來(lái)生成離子,雙燈絲設(shè)計(jì)可以延長(zhǎng)使用壽命,而無(wú)需中斷設(shè)備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態(tài),以防止燈絲材料沉積到樣品上。
離子源可以直接或通過(guò)單獨(dú)的渦輪泵差動(dòng)泵入系統(tǒng)，以提高系統(tǒng)真空。

帶有電源和掃描電子設(shè)備的控制器安裝在一個(gè)5-1/4英寸高的19英寸機(jī)架安裝柜中。離子槍可以從前面板上控制，也可以通過(guò)一個(gè)靈活的界面來(lái)控制，該界面允許控制射束和聚焦電壓、電離電流、氣體、射束開(kāi)/關(guān)以及光柵。光柵掃描是數(shù)字生成的，用于均勻的蝕刻速率。

NONSEQUITUR 離子源離子槍設(shè)計(jì)特點(diǎn):

• 高電流密度15至50 mA/cm2，取決于所選的斑點(diǎn)尺寸。
• 穩(wěn)定發(fā)射的離子源設(shè)計(jì)。
• 典型燈絲壽命大于500小時(shí)的雙鎢絲。氧化釔涂層銥可選。
• 可更換的光束微調(diào)孔，典型壽命> 500小時(shí)。
• 制造中使用的所有UHV兼容和抗蝕刻材料。
• 差動(dòng)泵送使主室氣體負(fù)荷最小化。
• 噴槍易于拆卸，便于維護(hù)。
• 電氣連接和氣體入口位于一個(gè)法蘭上，便于安裝。
• 預(yù)設(shè)提取和聚光透鏡參數(shù)(三個(gè)光斑尺寸設(shè)置)，可重復(fù)操作。
• 整體束流測(cè)量。
• 離子源壓力的直接測(cè)量。
• 系統(tǒng)和電纜聯(lián)鎖裝置可防止在真空不良或電纜拆除的情況下激發(fā)高壓。
• 單個(gè)5-1/4高19英寸機(jī)架安裝外殼中的電源和光柵發(fā)生器。
• 用于均勻蝕刻輪廓的數(shù)字生成光柵選項(xiàng)。
• 計(jì)算機(jī)控制選項(xiàng)。
• 可選離子源壓力調(diào)節(jié)。