GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/1/2 17:58:51
- 訪問次數(shù) 1432
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,冶金,綜合 |
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導(dǎo)電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。
1、全自動知識產(chǎn)品；
2、沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡。
二、基本原理
將導(dǎo)電性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到樣品表面上的設(shè)備。除此之外，非導(dǎo)電性樣品用以在透射電鏡下開展數(shù)據(jù)可視化，及其維護(hù)樣品表面免遭引入離子束的危害并幫助電子器件流動性。他們乃至可以作為塑料薄膜型電級的產(chǎn)生。
三、應(yīng)用領(lǐng)域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實際放大倍數(shù)≥100K）；
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。
四、設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)
| 型號&名稱 | GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵（進(jìn)口 ）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s） 旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s） |
| 真空測量 | 全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系統(tǒng)極限真空 | ≤5E-3Pa |
| 濺射電源 | 磁控濺射電源,功率150W |
| 可用靶材 | 所有金屬靶材，ITO靶材 |
| 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長5mA |
| 濺射時間 | 0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
| 操作方式 | 一鍵操作 |
| 抽氣節(jié)拍 | ＜15分鐘 |
| 控制方式 | 只需設(shè)定濺射電流和時間即可，全自動控制 具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時間可設(shè)定),全自動控制 |
| 保護(hù)功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等 |
| 樣品臺直徑 | φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動手動控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào) |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm |
| 電源供電 | 220V 50Hz 功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 424（長) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重) |
| 冷卻方式 | 內(nèi)部風(fēng)冷 |
| 選配 | 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等 |
鍍膜樣品示例：
靶材-銀 靶材-鎢 靶材-鉻
靶材-鎳 靶材-釩 靶材-錫
靶材-銅 靶材-鉭 靶材-貼
靶材-鈦 靶材-鉛 靶材-鉬
靶材-鋁 靶材-鉑 靶材-金
靶材-鋯 靶材-鉺 靶材-ITO
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