鈹銅對稱型金剛石對頂砧壓腔Symmetric DAC Sm-II型

該種cell被廣泛用于低溫?zé)o磁高壓科學(xué)研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，可以進行光學(xué)、X-Ray、低溫電學(xué)和同步輻射等相應(yīng)的實驗。

Sm-II型cell技術(shù)說明：

 材質(zhì)為進口高強鈹銅，熱處理后硬度HRC41±1；；

加工規(guī)范依據(jù)公制規(guī)格加工，配備進口公制螺絲配件； 

加工精度要求：平行度優(yōu)于±0.005，未標注公差±0.02，同軸度0.003，垂直度0.002，光潔度---底座面0.4，端面0.8；WC seat，0.005平行度，未標注公差±0.02，硬度HRC90；

 外觀亞光防銹處理，獨立真空包裝；

每套壓機配件：鈹銅級M5*25左右旋加壓螺絲，各2枚；M2.5頂絲基米8枚，鈹銅迷宮碟簧16枚，保護基米1枚，WC墊塊2枚；

 保修1年。 

參數(shù)介紹：

壓砧支撐材料：碳化鎢；

加壓機制：螺栓-碟簧加壓

頂部張角：60度；底部張角：60度

DAC高度：35mm

DAC外徑：47.64mm

工作距離：18mm

中心高度：6.89mm；中心孔徑：6.94mm

引 線 口：上下各4*dia1.0電極引線口