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THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐,優(yōu)良的壓力控制系統(tǒng)。

2. 設(shè)備用途/原理

THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐,優(yōu)良的壓力控制系統(tǒng),高精度溫度場控制技術(shù)優(yōu)良的顆??刂萍夹g(shù)可靠的氫氣工藝能力技術(shù),高產(chǎn)能。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 12 英寸,適用材料硅。適用工藝 低壓合金、金屬 / 非金屬退火、薄片退火。適用域  新興應(yīng)用、集成電路、優(yōu)良封裝。退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的??梢约訜峋约せ顡诫s劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。

退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計的設(shè)備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),采用纖維結(jié)構(gòu),節(jié)電60%。


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