RIE-10NR RIE等離子刻蝕設(shè)備

1. 產(chǎn)品概述

RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動(dòng)反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友好的界面。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料間的高蝕刻選擇性。RIE-10NR具有時(shí)尚、緊湊的設(shè)計(jì)，需要小的潔凈室空間。

2. 設(shè)備用途/原理

Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各種材料的蝕刻。故障分析中的選擇性層蝕刻。光阻劑的灰化、剝離和除塵。表面改性（潤(rùn)濕性和附著力的改善）。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大加工范圍：?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)。高選擇性各向異性蝕刻滿足苛刻的工藝要求。全自動(dòng) "一鍵式 "操作，可手動(dòng)操作。計(jì)算機(jī)觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友好的界面。自動(dòng)壓力控制，可精確控制工藝壓力，不受氣體流量影響。干式泵和系統(tǒng)布局便于維護(hù)?？煽亢湍陀玫南到y(tǒng)，全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。