SPW系列 卷繞式濺射設(shè)備

1 產(chǎn)品概述:

   卷繞式濺射設(shè)備，也稱為卷繞磁控濺射鍍膜機，是一種在真空環(huán)境下，利用磁控濺射技術(shù)將金屬、合金、化合物或陶瓷等材料沉積到連續(xù)卷繞的柔性基材（如塑料薄膜、金屬帶等）上的先進鍍膜設(shè)備。該設(shè)備主要由濺射室、卷繞系統(tǒng)、磁控靶及電源、樣品加熱系統(tǒng)、樣品退火系統(tǒng)、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)等組成。在濺射過程中，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原子或分子被濺射出來并沉積在基材上，形成所需的薄膜層。

2 設(shè)備用途：

卷繞式濺射設(shè)備具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，主要包括但不限于以下幾個方面：

1. 柔性電子：用于在柔性基材上鍍制各種介質(zhì)膜、導(dǎo)電膜等，如ITO透明導(dǎo)電膜，廣泛應(yīng)用于柔性線路板、柔性顯示器件等領(lǐng)域。

2. 太陽能電池：在金屬帶上鍍制光學(xué)多層膜，用于制作薄膜太陽能電池，提高光電轉(zhuǎn)換效率。

3. 包裝與防偽：在包裝材料上鍍制防偽膜層，提高產(chǎn)品的防偽性能和美觀度。

4. 電容器：在電容器電極上鍍制金屬薄膜，提高電容器的性能。

3 設(shè)備特點

卷繞式濺射設(shè)備具有以下幾個顯著特點：

1. 高效連續(xù)生產(chǎn)：設(shè)備采用連續(xù)卷繞的方式，實現(xiàn)了對柔性基材的連續(xù)鍍膜處理，大大提高了生產(chǎn)效率。

2. 鍍膜質(zhì)量高：磁控濺射技術(shù)具有鍍膜溫度低、膜層厚度可控、細(xì)膩、均勻、附著牢固等優(yōu)點，能夠制備出高質(zhì)量的薄膜層。

3. 鍍膜材料范圍廣：可適用于多種材料的鍍膜處理，包括金屬、合金、化合物和陶瓷等。

4 技術(shù)參數(shù)和特點：

可根據(jù)工藝或生產(chǎn)性選擇各種模組。

通過任意、追加選擇模組，可實現(xiàn)各種用途。

在地面高度可以進行設(shè)備操作。

優(yōu)秀的氛圍分隔性能和成膜工藝的改善，使高速率生產(chǎn)高品位的薄膜成為可能。

觸摸屏用配線膜、透明導(dǎo)電膜以及透明薄膜等。

FPC用電膜