GLA231 工業(yè)痕量氣體分析儀

關鍵特性

• 擁有 HF、HCI 和 NH₃ 中的單一氣體或多氣體配置

• 還能報告準確和精確的 H₂O 測量結(jié)果

• 標配 0 - 5 V 及模擬 4 - 20 mA 輸出，可選 Modbus

TCP

• 優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理，使得能以的性能測量亞 ppb

級濃度

• 主密碼保護可確保分析儀和數(shù)據(jù)安全

• 定制的標定和性能認證文件包

• 通過觸摸屏進行氣體濃度和分析儀狀態(tài)的數(shù)字化顯示 • 優(yōu)化的零氣性能，確保可靠地確認過程事件

概述 

LGR-ICOS™工業(yè)用痕量氣體分析儀能以的靈敏度、 準確度、精度和響應速度，滿足客戶的要求：

• 對半導體晶圓廠的工藝流程和為了人身健康與安全而

進行氣載分子污染物（AMC）監(jiān)測

• 前開式晶圓傳送盒（FOUP）和氣相沉積室監(jiān)測

簡介

LGR-ICOS AMC 監(jiān)測分析儀能以的精度和靈敏度， 對環(huán)境空氣或惰性工業(yè)氣流中的氟化氫、、氨和 水蒸氣進行高度靈敏地測量。該系列分析儀適用于進行 半導體應用中的氣載污染物監(jiān)測、FOUP 監(jiān)測和各種惰 性氣體背景下的測量，能以的整體性能報告寬濃度 范圍內(nèi)的測量結(jié)果。

該 LGR-ICOS 痕量氣體分析儀采用我們已獲的離 軸 ICOS 技術，也是第四代光腔增強吸收技術。該離軸 ICOS 技術相比傳統(tǒng)的光腔衰蕩光譜（CRDS）技術具 有許多優(yōu)勢，包括性能更加穩(wěn)健和可靠，測量時間更短，

光腔和鏡片可現(xiàn)場維修等。

所有 ABB 儀器都配有內(nèi)部計算機（Linux OS），能將 每次分析的結(jié)果和被測氣體的完整光譜都保存到內(nèi)部硬 盤上以實現(xiàn)長期無人值守的運行。數(shù)據(jù)可以通過模擬、 數(shù)字（RS232）和 Modbus 輸出連續(xù)地導出。而且， 儀器可以通過互聯(lián)網(wǎng)進行遠程控制。通過遠程訪問，用 戶可在無需到達現(xiàn)場的情況下，控制儀器，獲取數(shù)據(jù)， 以及診斷故障。

這些 LGR-ICOS 分析儀操作簡單，啟動迅速（只需幾 分鐘），無需現(xiàn)場標定，且預防維護需求極少。和所有 ABB 分析儀一樣，LGR-ICOS 工業(yè)痕量氣體分析儀由我 們專業(yè)的服務和技術支持人員來支持。

項目（氣體） H2O NH3 HCI HF H2O