化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機(jī)械設(shè)備>真空設(shè)備>其它真空類設(shè)備>EGPS-4190 美國kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
EGPS-4190 美國kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
- 公司名稱 皕赫科學(xué)儀器(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 EGPS-4190
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/12/12 21:42:18
- 訪問次數(shù) 331
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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美國kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
Kimball Physics 電子槍,其設(shè)計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用
EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190
帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個完整的子系統(tǒng),可隨時連接到用戶的真空系統(tǒng)??蛇x的光發(fā)射可以通過系統(tǒng)的視口聚焦用戶提供的電磁輻射源來實現(xiàn)。EMG-4193 可以提供能量從 1 keV 到 30 keV 和電流從 1 nA 到 10 µA 的電子。該槍使用 (LaB 6 ) 陰極提供小至 25 µm 的小光斑,使用壽命長達(dá)數(shù)千小時。還可以對光束進(jìn)行光柵化以對目標(biāo)成像。應(yīng)用包括表面物理和真空物理實驗。
能量范圍: 1 keV 至 30 keV
光束電流: 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸: 25 µm 至 500 µm
安裝:4?CF
特性/選項:光發(fā)射、操作時內(nèi)部對準(zhǔn)、靜電聚焦、四極對準(zhǔn)、八極偏轉(zhuǎn)/光柵/象散器、光束消隱、差分泵浦
美國kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
Kimball Physics 電子槍,其設(shè)計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑,用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用;或用于泛光束,用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍:
| 優(yōu)勢:
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性能:
| 應(yīng)用:
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