MINFLUX 光學顯微鏡 超分辨率極速三維成像顯納鏡
參考價 | ¥ 99 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 北京長恒榮創(chuàng)科技有限公司
- 品牌 abberior
- 型號 MINFLUX
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/9/30 14:25:42
- 訪問次數(shù) 281
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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),農業(yè),制藥 |
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顏色 | 黑色 | 品牌 | abberior |
部分組成1 | 共聚焦和STED成像用激發(fā)激光 | 部分組成2 | STED激光 |
部分組成3 | 顯微鏡 | 部分組成4 | 成像和掃描單元 |
部分組成5 | 共聚焦部分 | 部分組成6 | STED超分辨率部分 |
部分組成7 | 可選自適應光學(Adaptive Optics) | 部分組成8 | 可選自適應照明(Adaptive Iumination) |
部分組成9 | 熒光染料 | 部分組成10 | STED和 MINFLUX成像軟件 |
部分組成11 | MINFLUX專用激光器及全自動校準光路 | 部分組成12 | MINFLUX專用三維納米精度主動型定位 穩(wěn)定系統(tǒng) |
部分組成13 | MINFLUX成像專用超高速光束掃描系統(tǒng) | 部分組成14 | MINFLUX單分子追蹤軟件 |
光學顯微鏡 超分辨率極速三維成像顯納鏡MINFLUX 3D 優(yōu)秀的分辨率和速度
MINFLUX 平臺優(yōu)秀的成像能力,使您可分辨分子尺度的三維結構。這種分子尺度的分辨率以及極快的速度可顯示更多的細節(jié)。MINFLUX 目前是分辨率非常好的熒光顯微鏡之一。
這種單子分子納米尺度的分辨率以及超乎尋常的速度可揭示從未看見過的細節(jié)。MINFLUX 是全球較強大的熒光顯微鏡之一。
清晰度 比共聚焦顯微鏡高 100 倍
雖然以前的超高分辨率方法影響力很大,但未能實現(xiàn)單個熒光分子尺度的分辨率。MINFLUX 基于全新和革命性的定位原理,最終實現(xiàn)了該目標。十倍于傳統(tǒng)超高分辨,百倍于共聚焦熒光成像的跨越,
光學顯微鏡 超分辨率極速三維成像顯納鏡MINFLUX是精確和超高光子效率的熒光分子定位方式。通過新型 MINFLUX 系統(tǒng),abberior 制造出第一款可在生物樣品中實現(xiàn)大視場 (10 x 15 μm) 和1-3 nm (3D) 空間分辨率的商用熒光顯微鏡。MINFLUX 成像意味著可從樣品中掘取最多的定位信息。
追蹤速度比相機快 100 倍
MINFLUX 可以高達 10 kHz 的頻率追蹤分子,即以 100 µs 間隔解析分子運動。這比普通基于相機的追蹤快 100 倍。當然,追蹤在所有三個方向即沿 x、y 和 z 軸進行。由于每次定位只需要少量光子,因此能以較強的高時空分辨率監(jiān)測單個分子(以 20 nm 分辨率進行 28,000 次定位)。
MINFLUX 是最快的定位熒光分子的方式之一。通過其革命性的 MINFLUX 顯微鏡,abberior 以全球較高的時間分辨率在分子追蹤方面達到了一個新水平,為各學科的生命科學家開啟了嶄新的大門。
一鍵式切換 MINFLUX 分子成像與分子追蹤!
超大分辨率
來自于超低熒光發(fā)射
MINFLUX 定義了一種全新的超高分辨方法,充分利用了 STED 顯微鏡和單分子定位技術的優(yōu)點: 1) 單一時間只激活單個熒光發(fā)射,以獲得最佳分子區(qū)分效果, 2) 熒光發(fā)射的光分布采用中心零強度(而非最大強度)法以執(zhí)行定位。這從根本上減少了實現(xiàn)精確定位所需的發(fā)射光子數(shù)量。激發(fā)光束的中心零強度法通過執(zhí)行亞納米探測步驟搜索發(fā)射分子。零強度點離分子越近,所產生的熒光度越低。通過優(yōu)化實現(xiàn)低發(fā)射速度,MINFLUX 顯微鏡將放大分子,從而提高所顯示的分子位置精度。
將激發(fā)光束的暗影中心與分子位置匹配,最大限度地減少熒光通量,可靠地定位分子,3D 精度達單分子納米級別! 通過發(fā)射最小化而不是超大化,MINFLUX 定位有如下特點: i) 與生俱來的快速, ii) 不丟棄弱發(fā)射的分子, iii) 超大程度地減少了漂白,并且 iv) 對漂移的依賴性更小。未知分子取向和翻振對相機質心定位精確性產生的嚴重影響被排除。
標準鏡體有如日常工作
Abberior 的科學家和研發(fā)人員深知平穩(wěn)和簡便的操作對于生物學研究至關重要。我們 MINFLUX 系統(tǒng)采用了標準顯微鏡鏡體,可提供從各種不同的選項,包括寬場熒光顯微鏡、DIC 顯微鏡、相差顯微鏡、共聚焦和 STED 顯微鏡、直至 MINFLUX。為了超大程度地提高耐久性,我們制造 MINFLUX 系統(tǒng)時在堅固的光學臺面上采用可靠的,久經時間考驗的元件來組裝。我們使用異常堅固的光機模塊,這些模塊已在全球數(shù)百臺 abberior 顯微鏡中被證實能高效穩(wěn)定地工作。
另外,按照我們先進儀器的設計理念,我們的 MINFLUX 系統(tǒng)具有前瞻性,其設計可適用超新技術:保持高性能。
幾乎無漂移穩(wěn)如磐石
進行納米分辨率的實驗時,極微小的樣品漂移和移動就能影響性能。因此,我們的 MINFLUX 采用了主動亞納米穩(wěn)定技術。MINFLUX 成像時,基于激光照明基準標記的全自動穩(wěn)定系統(tǒng)使樣品保持靜止,三維上殘留的波動 < 1 nm。