RVL2000 LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

自1998年以來(lái)，LK一直在全球范圍內(nèi)提供LEED低能電子衍射儀系統(tǒng)。

RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結(jié)構(gòu)，無(wú)需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號(hào)和選件，包括低電流（nA，pA）MCP型號(hào)。所有光學(xué)器件均采用4網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)與俄歇電子能譜AES連用

• 采用4格鎢光學(xué)元件的精密結(jié)構(gòu)

• 微型1.59厘米直徑電子槍

• 103度可用視角

• 0.5％的能量分辨率

• 提供可伸縮光學(xué)元件（標(biāo)準(zhǔn)2英寸和最大4英寸縮回）

• 安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置

• 與UHV兼容（不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線）

• 低噪音，高性能的俄歇電子設(shè)備，帶有集成鎖定放大器

• MCP版本的pA和nA電流水平

• 全系列選項(xiàng)包括低調(diào)快門，CCD攝像頭和軟件，6英寸和8英寸外徑法蘭型號(hào)

• LK Technologies低能電子衍射儀真空組件

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• HREELS高分辨電子能量損失譜儀在分辨率和信號(hào)水平方面表現(xiàn)全球?，F(xiàn)在結(jié)合我們的多通道分析儀選件（EA5000MCA），可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集速度。用于研究表面分子振動(dòng)，表面聲子和等離子體以及電子能級(jí)和能帶隙。

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• 超高分辨率0.5 meV FWHM

• 在1.0 meV分辨率（FWHM）下保證探測(cè)器電流大于或等于10pA

• 采用具有可控角度像差的新型靜電偏轉(zhuǎn)器

• 具有菜單驅(qū)動(dòng)軟件的低噪聲數(shù)字控制電子設(shè)備

• 用戶可選擇的掃描范圍高達(dá)50 eV，適用于電子振動(dòng)/電子應(yīng)用

• LK1000M電子槍有出色能量分辨率的電子源，針對(duì)高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化 應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實(shí)驗(yàn)。

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• 低于10 meV的能量分辨率可通過(guò)能量調(diào)節(jié)

• 在20 meV能量分辨率下，典型輸出電流> 10 nA

• 單通道雙聚焦單色器，具有空間電荷優(yōu)化功能

• 5元素變焦鏡頭/轉(zhuǎn)移鏡頭，適用于長(zhǎng)工作距離

• 整體磁屏蔽

• 除了表面分析組件外，LK Technologies還專門設(shè)計(jì)和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng)，這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。

• 這些系統(tǒng)的常見元件是精密UHV室，主泵（通常是離子泵），輔助泵（通常是渦輪分子），精密樣品操縱器，安裝框架和真空計(jì)量?？蛻敉ǔＲ蟮目蛇x組件是快速樣品引入系統(tǒng)（加載鎖定）和烘烤控制。

• 請(qǐng)聯(lián)系LK獲取更多信息，并討論您的自定義系統(tǒng)要求。多探針分析系統(tǒng)是全球?qū)嶒?yàn)室提供的一個(gè)例子：

• 多探針分析系統(tǒng)，包括XPS分析，X射線單色儀，半球形分析儀，AES，ISS，多通道HREELS和帶有快速樣品加載系統(tǒng)的完整樣品制備室。

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LK-Technologies強(qiáng)大，流行的離子源設(shè)計(jì)用于通過(guò)離子濺射清潔表面，光束能量高達(dá)3 keV，典型離子電流高達(dá)30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統(tǒng)，該系統(tǒng)允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進(jìn)行濺射。

• 氣體注入系統(tǒng)避免了昂貴的差動(dòng)泵送設(shè)備

• 低室壓下的惰性氣體濺射

• 寬離子束確保均勻?yàn)R射

• 與普通濺射清潔和ISS應(yīng)用兼容

• 連續(xù)可調(diào)諧的電壓從200 V到3 kV

• 帶USB或以太網(wǎng)接口的數(shù)字控制電子設(shè)備