與熱離子和熱場發(fā)射器不同，CFE在室溫下工作。當電子響應于強電場的施加而發(fā)射時，就會發(fā)生場發(fā)射。為了實現(xiàn)這種高場，單晶鎢被蝕刻到顯微鏡下鋒利。CFE是非常高亮度的光源，因此在需要高電流密度和可以實現(xiàn)真空條件的應用中表現(xiàn)出色。
AP Tech離子源, 冷場發(fā)射器 濺射陰極
在APT，我們在內(nèi)部種植和加工自己的單晶鎢。我們的蝕刻工藝可以根據(jù)客戶的要求進行定制，并受到嚴格控制，以確保質(zhì)量和一致性。APT可以為CFE提供任何發(fā)射極-基極/抑制器配置，包括FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL和自定義配置。
使用此圖表可比較我們的 TE、CFE 和 TFE 離子源的一般操作要求和性能規(guī)格。
AP Tech 鋯鎢（ZrOW）熱場發(fā)射器（TFE）原理
熱場發(fā)射器（TFE）被加熱，就像熱離子發(fā)射器一樣，但也被電化學蝕刻，具有微觀上鋒利，類似于冷場發(fā)射器的方式。在工作過程中，由于發(fā)射極的銳度及其對抑制器的定向，在源端產(chǎn)生了非常高的電場。電場對勢壘的降低和通過加熱提供給電子的熱能產(chǎn)生了一個能夠以非交叉模式（或虛擬源模式）工作的源。因此，與熱離子發(fā)射器不同，tfe不受空間電荷限制，并且比典型的熱離子源亮幾個數(shù)量級。APT現(xiàn)在提供鋯鎢熱場發(fā)射器（ZrOW TFE），俗稱肖特基源。ZrOW TFE是電子束應用的行業(yè)標準發(fā)射器，需要高亮度，提高空間分辨率，穩(wěn)定發(fā)射和長壽命。我們的ZrOW源滿足一般OEM性能規(guī)格和操作參數(shù)，并且可以使用定制的端形（半徑）幾何形狀和任何發(fā)射器底座/抑制器配置（包括FEI/Philips， Denka，日立，JEOL或定制配置）制造。
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