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CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器

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COMPANY PROFILE
PECULIAR (UK) INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED 是實驗室前處理設(shè)備(氣體發(fā)生器、降
噪設(shè)備、純水設(shè)備)的主要供應(yīng)商,歐洲(英國、德國)和亞洲(北京)地區(qū)三大生產(chǎn)基地,超過十幾年的實驗室前處理產(chǎn)品研發(fā)和制造歷史,不斷追求技術(shù)革新,其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于制藥、食品、環(huán)保、生物、石化、煙草、出入境檢驗檢疫、疾病控制、科研院所等分析實驗室。為現(xiàn)代化的分析實驗室提供理想的前處理系統(tǒng)解決方案。

氣體發(fā)生器系列

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
氫氣純度 99.9999-99.99999% 輸出流量 1L-17L/mincc/min
輸出壓力 0-80psi(約0.5MPa)psi 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,綜合

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器是一款專為CVD和MOCVD技術(shù)設(shè)計的高性能設(shè)備。

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器產(chǎn)品特點

1、高純度輸出:

1)該設(shè)備能夠穩(wěn)定產(chǎn)生高達(dá)99.999%至99.99999%純度的氫氣,確保在薄膜生長過程中不受雜質(zhì)的影響,從而提高最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。

2、精確的流量和壓力控制:

1)配備高精度的流量和壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),因為氫氣的流量和壓力直接影響薄膜的生長速率和均勻性。通過精確控制這些參數(shù),可以優(yōu)化薄膜的性能,滿足不同的應(yīng)用需求。

3、多重安全性能:

1)考慮到氫氣的易燃性,該氫氣發(fā)生器設(shè)計了多重安全措施,包括泄漏監(jiān)測、自動關(guān)閉系統(tǒng)以及防爆構(gòu)造,確保實驗室和生產(chǎn)環(huán)境的安全。

4、現(xiàn)代化設(shè)計:

1)操作過程簡便,同時配備了直觀的用戶界面和自動化控制系統(tǒng),大大提升了實驗和生產(chǎn)的效率。

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器技術(shù)特點

1、電解技術(shù):采用純水電解技術(shù),通過電解水直接產(chǎn)生氫氣,環(huán)保經(jīng)濟(jì)且易于操作。

2、先進(jìn)材料:設(shè)備內(nèi)部采用英國Peculiar研發(fā)的離子膜和硅橡膠圈等優(yōu)質(zhì)材料,這些材料不僅提高了氣體質(zhì)量和純度,還有效延長了設(shè)備的使用壽命。

3、智能控制:配備智能化控制系統(tǒng),能夠?qū)崟r監(jiān)測氫氣的產(chǎn)量和質(zhì)量,并根據(jù)實際需求進(jìn)行自動調(diào)節(jié)。這種精確的控制確保了氫氣的產(chǎn)量和純度始終保持在最佳狀態(tài),從而滿足CVD和MOCVD過程中對氫氣的嚴(yán)格要求。

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器應(yīng)用范圍

1、CVD和MOCVD技術(shù):作為還原劑和載氣,在CVD和MOCVD過程中起著至關(guān)重要的作用。通過提供高純度的氫氣,確保薄膜生長的純度和質(zhì)量。

2、半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,為化學(xué)反應(yīng)提供所需的還原劑或保護(hù)氣氛。

3、其他科研領(lǐng)域:在生物學(xué)實驗、物理學(xué)研究以及氫能源開發(fā)和燃料電池的研究中也發(fā)揮著重要的作用。


 

 

 

 



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