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RTP-200 8寸快速退火爐/德國UniTemp

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真空快速退火爐快速退火爐RTP-200

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機,熱蒸發(fā)鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓??;-等離子清洗機、去膠機;-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發(fā)機,化學(xué)沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國家試驗室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。









半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

RTP-200快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號,分別對應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

點擊查閱詳細信息

技術(shù)規(guī)格:

- 溫度:1200攝氏度;

- 升溫速率:150攝氏度/秒;

- 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);

- 溫控均勻性:≤ 1.5%設(shè)定溫度;

- 加熱方式:紅外鹵素?zé)?,頂部及底部加熱?/p>

- 燈管數(shù)量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);

- 腔體冷卻:水冷方式;

- 襯底冷卻:氮氣吹掃;

- 工藝氣路:MFC控制,最多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);

- 主機尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;

 

儀器特點:

- 真空快速退火爐,有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa);

- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;

- 控制方式:SIMATIC, SPS人機界面控制,7英寸觸摸屏;

- 可存儲50個程序,每個程序最多分為50段控制;

- 全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動設(shè)置;

- 優(yōu)異的溫控均勻性,工藝重現(xiàn)性;

- 小尺寸臺式設(shè)計;

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

- 離子注入/接觸退火;

- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);

- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;

- SiAu, SiAl, SiMo合金化;

- 低介電材料;

- 晶體化,致密化;

- 太陽能電池片鍵合;

等等...

參考客戶:

西安交通大學(xué)、西安電子科技大學(xué)、中國科技大學(xué)、江漢大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所、京東方、武漢光迅、能華微電子等。



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