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Excipolar Scatfere 原位電化學(xué)干涉散射成像系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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常州譜光慧聯(lián)科技有限公司是一家專注于為材料科學(xué)、生命科學(xué)以及半導(dǎo)體、光電子等相關(guān)領(lǐng)域的復(fù)雜應(yīng)用提供光學(xué)與光譜分析解決方案的精密儀器公司。公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為光學(xué)與光譜技術(shù)和檢測(cè)分析設(shè)備的研發(fā)、制造、生產(chǎn)、銷售、以及相關(guān)服務(wù)業(yè)務(wù)。公司核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)在光譜學(xué)領(lǐng)域具有將近20年的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與技術(shù)積累,形成了高靈敏度共聚焦拉曼/熒光光譜、角分辨光譜、瞬態(tài)吸收光譜,掃描光電流譜及其他新穎的光學(xué)/光譜顯微成像技術(shù)和產(chǎn)品。公司旨在依托我們?cè)诠鈱W(xué)和光譜學(xué)領(lǐng)域多年的研究和技術(shù)積累,推動(dòng)我國(guó)在光學(xué)與光譜儀器設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化發(fā)展和國(guó)產(chǎn)化替代,打破國(guó)外設(shè)備的長(zhǎng)期壟斷,成為光譜行業(yè),為我國(guó)在分析儀器領(lǐng)域的發(fā)展貢獻(xiàn)綿薄之力。

公司具有強(qiáng)大的產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)支撐。核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)中40%的研發(fā)人員具有博士學(xué)位,50%具有高級(jí)職稱。公司現(xiàn)有300 m2的研發(fā)場(chǎng)地和Demo中心,并與國(guó)內(nèi)研究機(jī)構(gòu)共建了聯(lián)合研發(fā)與應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,以促進(jìn)產(chǎn)學(xué)研轉(zhuǎn)化。我們的宗旨是與客戶深入合作,深刻理解客戶的應(yīng)用需求,通過(guò)創(chuàng)新且專業(yè)的解決方案解決客戶痛點(diǎn),與客戶共同成長(zhǎng)并獲得成功。

 


 

公司以創(chuàng)新作為核心競(jìng)爭(zhēng)力,高度重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)的保護(hù);核心產(chǎn)品均具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),涵蓋了光譜、光電聯(lián)合檢測(cè)等多方面綜合技術(shù)。


常州譜光慧聯(lián)科技有限公司是一家專注于為材料科學(xué)、生命科學(xué)以及半導(dǎo)體、光電子等相關(guān)領(lǐng)域的復(fù)雜應(yīng)用提供光學(xué)與光譜分析解決方案的精密儀器公司。公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為光學(xué)與光譜技術(shù)和檢測(cè)分析設(shè)備的研發(fā)、制造、生產(chǎn)、銷售、以及相關(guān)服務(wù)業(yè)務(wù)。

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類 普通凝膠成像 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè)


 

原位電化學(xué)干涉散射成像-共聚焦拉曼關(guān)聯(lián)系統(tǒng)
——

高分辨、原位表征、特別的離子遷移觀測(cè)解決方案

 

  干涉散射成像,是基于顯微成像技術(shù)拓展而來(lái)的,具有高分辨和高對(duì)比度的成像技術(shù)。其利用激光寬場(chǎng)照明,獲得樣品對(duì)激光的散射信號(hào),再通過(guò)干涉方式對(duì)樣品表面進(jìn)行成像。由于干涉信號(hào)對(duì)樣品表面的折射率變化異常敏感,因此能夠以較高的空間分辨率對(duì)電化學(xué)充放電過(guò)程中所引起的顆粒表面的細(xì)微變化進(jìn)行成像,并以高對(duì)比度反映充放電時(shí)離子化合物的形成、變化和遷移過(guò)程并分析其電化學(xué)機(jī)理。

  該系統(tǒng)還結(jié)合了共聚焦顯微拉曼成像技術(shù),能夠在樣品同一位置原位實(shí)現(xiàn)干涉散射成像與共聚焦拉曼光譜的表征,從而綜合表征充放電過(guò)程中材料的結(jié)構(gòu)、成分等性質(zhì)的變化,以及離子遷移的過(guò)程。

  

主要特點(diǎn)

  • 特別的干涉散射成像模式,反映離子化合物的形成、遷移和分布。

  • 可原位獲得樣品同一區(qū)域的干涉散射成像和拉曼光譜/mapping結(jié)果。

  • 較高的空間分辨率(300nm 720nm波長(zhǎng))。

  • 自動(dòng)聚焦等自動(dòng)化操作和數(shù)據(jù)采集功能,確保光路的穩(wěn)定性,以及易用性。

 



 

應(yīng)用領(lǐng)域

  • 電化學(xué)、電池材料

  • 二維材料等微納米材料

 


 

Specifications

 

光譜范圍
300-1050nm
拉曼光譜分辨率
<1cm-1 (532nm激發(fā))
拉曼截止波數(shù):
<100cm-1 (532nm激發(fā))
干涉散射成像空間分辨率
300nm
樣品臺(tái)
X=50mm * Y=50mm,Z=20mm
步進(jìn)精度優(yōu)于 0.05μm,重復(fù)精度2μm
特色功能
自動(dòng)聚焦、原位干涉散射-拉曼光譜關(guān)聯(lián)成像

 



相關(guān)分類

活體成像系統(tǒng)


化工儀器網(wǎng)

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