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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>配件耗材>顯微鏡配件/附件>其它顯微鏡配件> TEM用氮化硅薄膜窗口/窗格/支撐膜

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TEM用氮化硅薄膜窗口/窗格/支撐膜

參考價(jià) 120
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

TEM用氮化硅薄膜窗

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上海昭沅儀器設(shè)備有限公司,代理多項(xiàng)世界*公司的表面形貌測(cè)試產(chǎn)品,擁有一支由經(jīng)驗(yàn)豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成的團(tuán)隊(duì),著重為各高校,研究所等單位提供完整的實(shí)驗(yàn)室科研儀器設(shè)備。    

    公司倡導(dǎo)以客戶為中心的專家式營(yíng)銷模式,關(guān)注產(chǎn)品和服務(wù)的每一個(gè)細(xì)節(jié),吸引了一批中青年專業(yè)人才,組成了充滿活力的技術(shù)開發(fā)和經(jīng)營(yíng)管理隊(duì)伍,通過(guò)與大量用戶的良好互動(dòng),穩(wěn)步建立起完善的市場(chǎng)網(wǎng)絡(luò)和*平臺(tái)。為進(jìn)一步提升產(chǎn)品品質(zhì),公司組織專門人員建立企業(yè)標(biāo)準(zhǔn),由上海市技術(shù)*備案,保證產(chǎn)品更具*的品質(zhì)和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
    
公司秉承合作、服務(wù)、創(chuàng)新的經(jīng)營(yíng)宗旨和服務(wù)理念,決心為客戶提供無(wú)微不致的關(guān)懷,為中國(guó)科技教學(xué)實(shí)踐、材料測(cè)試、生物醫(yī)學(xué)研究、微納機(jī)電系統(tǒng)研發(fā)等領(lǐng)域提供*的解決方案與咨詢服務(wù)。

 

各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機(jī)、等離子清洗機(jī)、干燥箱、探針式臺(tái)階儀輪廓儀,防震平臺(tái),全光纖測(cè)試系統(tǒng),凝固點(diǎn)測(cè)試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材

 
名稱:TEM用氮化硅薄膜窗口/窗格
編號(hào):TEM
產(chǎn)品詳情:

TEM用氮化硅薄膜窗

氮化硅薄膜窗特點(diǎn)
•     低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜:50nm厚的薄膜具有zui大的視野范圍;8nm和15nm厚的無(wú)孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用
•    氮化硅支撐膜:低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計(jì)量比氮化硅薄膜,良好的平整度、絕緣性和疏水性
•    良好的化學(xué)穩(wěn)定性:圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡;
•    均勻性:減少了不同區(qū)域的不均勻性;
•     TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口:適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口,傾斜度zui大可達(dá)75°
•     多窗口系列:2窗口,0.1x1.5mm;3x3系列,0.1x0.1mm
•     可應(yīng)用于多種顯微技術(shù):良好的機(jī)械穩(wěn)定性使得同一種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。
•     薄膜和基底耐酸,不會(huì)被溶解:可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本
•     可應(yīng)用于高溫試驗(yàn)環(huán)境: >1000° C
•     可提供更對(duì)精確的分析,如樣品中的碳含量,減少污染:可用于無(wú)碳環(huán)境中的TEM成像和分析
•     容易清洗:機(jī)械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗,無(wú)有機(jī)物殘留,改善成像質(zhì)量;
•     良好的平整度:良好的納米沉積基底和薄膜,無(wú)背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像
•     超凈加工,防止支撐膜上殘留微粒:100級(jí)的超凈間內(nèi)包裝
•     框架厚度:200 and 50µm :200µm是標(biāo)準(zhǔn)的TEM支撐架;50µm是特殊的TEM支撐架
•     標(biāo)準(zhǔn)框架直徑為3mm
•     同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性
 
氮化硅薄膜窗規(guī)格
 
單窗口系列
窗口類型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
報(bào)價(jià)/USD
20nm
500x500µm
Φ3mm
100µm
¥120.00
20/50nm
500x500µm
Φ3mm
200µm
¥120.00/¥90.00
50nm
1000x1000µm
Φ3mm
200µm
¥90.00
50nm
100x100µm
Φ3mm
200µm
¥90.00
15nm
0.25x0.25mm
Φ3mm
200µm
¥245.00
50nm
0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm
Φ3mm
200µm
¥145.00
¥165.00
¥168.00
¥168.00
200nm
0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm
Φ3mm
200µm
¥115.00
¥125.00
¥125.00
¥130.00
15/50/200nm
0.25x0.25mm
Φ3mm
50µm
¥285.00
50nm
/200nm
0.5x1.5mm
Φ3mm
50µm
¥168.00
¥135.00
 
多窗口系列
 
窗口類型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
報(bào)價(jià)/USD
50nm
2x1陣列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
¥90.00
15nm
/50nm
/200nm
2x1陣列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
¥245.00
¥145.00
¥115.00
50nm
2x1陣列,100X1500µm
Φ3mm
50µm
¥285.00
10nm
/20nm
3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm,
1個(gè)窗口100X350µm
Φ3mm
100µm
¥150.00
¥120.00
10nm
3x3陣列,8個(gè)窗口250X250µm,
1個(gè)窗口250X500µm
Φ3mm
100µm
¥150.00
20nm
3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm,
1個(gè)窗口100X350µm
Φ3mm
200µm
¥120.00
50nm
3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm,
1個(gè)窗口100X350µm
Φ3mm
100µm
$9.00
15nm
/50nm
/200nm
3x3陣列,窗口100X100µm,
Φ3mm
200µm
¥245.00
¥145.00
¥115.00
50nm
3x3陣列,窗口100X100µm,
Φ3mm
50µm
¥285.00
 
8nm
單窗口,窗口大?。?.6×0.6mm;25個(gè)網(wǎng)格,氮化硅支撐膜200nm;網(wǎng)格上的氮化硅薄膜8nm;網(wǎng)格大小:75µm ,網(wǎng)格間距:25µm;
Φ3mm
200µm
¥385.00
 
應(yīng)用簡(jiǎn)介:
 
1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對(duì)同一區(qū)域的交叉配對(duì)表征。
2、大窗口尺寸,適合TEM大角度轉(zhuǎn)動(dòng)觀察。
3、無(wú)碳、無(wú)雜質(zhì)的清潔TEM觀測(cè)平臺(tái)。
4、背景氮化硅無(wú)定形、無(wú)特征。
5、耐高溫、惰性襯底,適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,(薄膜直接沉積在窗口上)。
6、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后,窗口具有很好的親水性。
7、耐高溫、惰性襯底,也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。
8、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。

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