產(chǎn)品詳情: TEM用氮化硅薄膜窗 氮化硅薄膜窗特點(diǎn) • 低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜:50nm厚的薄膜具有zui大的視野范圍;8nm和15nm厚的無(wú)孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用 • 氮化硅支撐膜:低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計(jì)量比氮化硅薄膜,良好的平整度、絕緣性和疏水性 • 良好的化學(xué)穩(wěn)定性:圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡; • 均勻性:減少了不同區(qū)域的不均勻性; • TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口:適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口,傾斜度zui大可達(dá)75° • 多窗口系列:2窗口,0.1x1.5mm;3x3系列,0.1x0.1mm • 可應(yīng)用于多種顯微技術(shù):良好的機(jī)械穩(wěn)定性使得同一種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。 • 薄膜和基底耐酸,不會(huì)被溶解:可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本 • 可應(yīng)用于高溫試驗(yàn)環(huán)境: >1000° C • 可提供更對(duì)精確的分析,如樣品中的碳含量,減少污染:可用于無(wú)碳環(huán)境中的TEM成像和分析 • 容易清洗:機(jī)械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗,無(wú)有機(jī)物殘留,改善成像質(zhì)量; • 良好的平整度:良好的納米沉積基底和薄膜,無(wú)背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像 • 超凈加工,防止支撐膜上殘留微粒:100級(jí)的超凈間內(nèi)包裝 • 框架厚度:200 and 50µm :200µm是標(biāo)準(zhǔn)的TEM支撐架;50µm是特殊的TEM支撐架 • 標(biāo)準(zhǔn)框架直徑為3mm • 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性 氮化硅薄膜窗規(guī)格 單窗口系列 窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 | 報(bào)價(jià)/USD | | 20nm | 500x500µm | Φ3mm | 100µm | ¥120.00 | 20/50nm | 500x500µm | Φ3mm | 200µm | ¥120.00/¥90.00 | 50nm | 1000x1000µm | Φ3mm | 200µm | ¥90.00 | 50nm | 100x100µm | Φ3mm | 200µm | ¥90.00 | | 15nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 200µm | ¥245.00 | 50nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200µm | ¥145.00 ¥165.00 ¥168.00 ¥168.00 | 200nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200µm | ¥115.00 ¥125.00 ¥125.00 ¥130.00 | 15/50/200nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 50µm | ¥285.00 | | 50nm /200nm | 0.5x1.5mm | Φ3mm | 50µm | ¥168.00 ¥135.00 | 多窗口系列 窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 | 報(bào)價(jià)/USD | | 50nm | 2x1陣列,100X1500µm | Φ3mm | 200µm | ¥90.00 | | 15nm /50nm /200nm | 2x1陣列,100X1500µm | Φ3mm | 200µm | ¥245.00 ¥145.00 ¥115.00 | 50nm | 2x1陣列,100X1500µm | Φ3mm | 50µm | ¥285.00 | | 10nm /20nm | 3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm, 1個(gè)窗口100X350µm | Φ3mm | 100µm | ¥150.00 ¥120.00 | 10nm | 3x3陣列,8個(gè)窗口250X250µm, 1個(gè)窗口250X500µm | Φ3mm | 100µm | ¥150.00 | 20nm | 3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm, 1個(gè)窗口100X350µm | Φ3mm | 200µm | ¥120.00 | 50nm | 3x3陣列,8個(gè)窗口100X100µm, 1個(gè)窗口100X350µm | Φ3mm | 100µm | $9.00 | | 15nm /50nm /200nm | 3x3陣列,窗口100X100µm, | Φ3mm | 200µm | ¥245.00 ¥145.00 ¥115.00 | 50nm | 3x3陣列,窗口100X100µm, | Φ3mm | 50µm | ¥285.00 | | 8nm | 單窗口,窗口大?。?.6×0.6mm;25個(gè)網(wǎng)格,氮化硅支撐膜200nm;網(wǎng)格上的氮化硅薄膜8nm;網(wǎng)格大小:75µm ,網(wǎng)格間距:25µm; | Φ3mm | 200µm | ¥385.00 | 應(yīng)用簡(jiǎn)介: 1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對(duì)同一區(qū)域的交叉配對(duì)表征。 2、大窗口尺寸,適合TEM大角度轉(zhuǎn)動(dòng)觀察。 3、無(wú)碳、無(wú)雜質(zhì)的清潔TEM觀測(cè)平臺(tái)。 4、背景氮化硅無(wú)定形、無(wú)特征。 5、耐高溫、惰性襯底,適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,(薄膜直接沉積在窗口上)。 6、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后,窗口具有很好的親水性。 7、耐高溫、惰性襯底,也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。 8、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。 |