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TEM用氧化硅薄膜窗口/窗格/支撐膜

參考價 120
訂貨量 ≥1
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上海昭沅儀器設備有限公司,代理多項世界*公司的表面形貌測試產品,擁有一支由經驗豐富的銷售人員和技術人員組成的團隊,著重為各高校,研究所等單位提供完整的實驗室科研儀器設備。    

    公司倡導以客戶為中心的專家式營銷模式,關注產品和服務的每一個細節(jié),吸引了一批中青年專業(yè)人才,組成了充滿活力的技術開發(fā)和經營管理隊伍,通過與大量用戶的良好互動,穩(wěn)步建立起完善的市場網絡和*平臺。為進一步提升產品品質,公司組織專門人員建立企業(yè)標準,由上海市技術*備案,保證產品更具*的品質和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
    
公司秉承合作、服務、創(chuàng)新的經營宗旨和服務理念,決心為客戶提供無微不致的關懷,為中國科技教學實踐、材料測試、生物醫(yī)學研究、微納機電系統研發(fā)等領域提供*的解決方案與咨詢服務。

 

各種光學顯微鏡,顯微鏡、勻膠機、等離子清洗機、干燥箱、探針式臺階儀輪廓儀,防震平臺,全光纖測試系統,凝固點測試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材

 
名稱:氧化硅TEM窗口
編號:氧化硅
產品詳情:
透射電鏡TEM用氧化硅薄膜窗格
 
 
 
氧化硅與氮化硅薄膜窗格比較:
相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會與樣本造成混淆。


樣本安置面:
對多數用戶來說,樣本應安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蝕坑面”。但我們也知道在一些特殊情況下,蝕坑面也可安置樣本。除對樣本進行原子力顯微鏡(AFM)觀測外,蝕坑面本質上并非不可用于放置樣本。實際上,沒有一個顯微鏡的懸臂可以伸至蝕坑內“看清”薄膜表面。
 
產品規(guī)格:
 
 
氧化硅薄膜窗特點:
 
清洗:采用等離子清洗,無有機物殘留,改善成像質量;
均勻性:減少了不同區(qū)域的不均勻性;
穩(wěn)定性: 耐高溫,>1000℃;
良好的化學穩(wěn)定性:圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡;
化學計量比的SiO2可用于氮氣環(huán)境下的EDX分析;
 
氧化硅薄膜窗規(guī)格
 
窗口類型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
報價/USD
20nm
2x1陣列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
¥120.00
40nm
2x1陣列,100X1500µm
Φ3mm
200µm
¥150.00
20nm
3x3陣列,窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
¥200.00
40nm
3x3陣列,窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
¥150.00
8nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24個網格,網格大小70x70µm
Φ3mm
200µm
¥425.00
18nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24個網格,網格大小60x60µm
Φ3mm
200µm
¥350.00
40nm
窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24個網格,網格大小50x50µm
Φ3mm
200µm
¥295.00
 
氧化硅與氮化硅薄膜窗格比較:
相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會與樣本造成混淆。
 
優(yōu)點:
  • SEM應用中,薄膜背景不呈現任何結構和特點。
  • x-射線顯微鏡中,裝載多個分析樣的*方法。
  • 無氮
 
應用:
氧化硅薄膜應用范圍非常廣,甚至有時使不可能變?yōu)榭赡埽袘枚加袩o氮要求(因樣本中有氮存在):
● 惰性基片可用于高溫環(huán)境下,通過TEM、SEM或AFM(某些情況下)對反應進行動態(tài)觀察。
● 作為耐用(如“強力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下對同一區(qū)域進行“匹配”。
● 作為耐用匹配基片,對AFM和TEM圖像進行比較。
● 聚焦離子束(FIB)樣本的裝載,我們*使用多孔薄膜,而非不間斷薄膜。
 
氧化硅薄膜TEM網格操作使用:
如果正確操作,氧化硅薄膜將會擁有非常好的性能。相反,若用工具直接接觸薄膜,則會即刻損壞薄膜。為防損壞,可用尖嘴鑷子小心夾取,就像夾取其他TEM網格一樣。 
 
使用前清潔:
    氧化硅薄膜窗格在使用前不需進行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片。由于單片網格需要從整個硅片中分離,并對外框進行打磨,因此這些微小碎片不可避免。盡管如此,我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產生任何影響。

    如果用戶確實需要對這些碎片進行清理,我們建議用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清潔有機物,用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清潔金屬。

    通常不能用超聲波清洗器清潔薄膜,因超聲波可能使其粉碎性破裂。

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