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1、在氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)的試用過(guò)程中,對(duì)其內(nèi)部的潔凈度做測(cè)量。必須滿足顆粒≦10ea@0.3um?。Α〃Q20ea@0.2um。
2、對(duì)溫濕度作24小時(shí)不間斷的監(jiān)控。若氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)在*關(guān)閉的情況下,濕度不能有超過(guò)+/-5%RH的波動(dòng)。
3、氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)內(nèi)濕度從60%RH降低到15%RH的時(shí)間不能超過(guò)30分鐘。
4、氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)內(nèi)放置的硅片的TDH試驗(yàn)必須通過(guò)。即經(jīng)過(guò)干燥2小時(shí)的硅片不能有不正?;虺瑯?biāo)返顆粒的現(xiàn)象產(chǎn)生(返顆粒取樣測(cè)試后總數(shù)平均數(shù)與原有硅片顆粒數(shù)對(duì)比≦10ea?。ò?.2um及0.3um))。
5、氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)內(nèi)放置的硅片盒,經(jīng)過(guò)干燥2小時(shí)后,硅片盒取樣及定點(diǎn)測(cè)試靜電值必須≦1kv。
6、氮?dú)夤?jié)能潔凈過(guò)濾訂制機(jī)內(nèi)不能有氮?dú)獾乃澜牵褂蔑L(fēng)速測(cè)定儀來(lái)檢測(cè)內(nèi)部硅片放置各點(diǎn)的風(fēng)速,不能有較大差異。
:劉S
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